[发明专利]一种化学机械研磨组合物

摘要

本发明公开了一种化学机械研磨组合物，其特征在于，包括下列重量份数的物质：水杨酸钠35-40份，醋酸钠2-7份，含氢硅油3-8份，甲基硅油9-15份，调节剂1-3份，水性介质50-55份，纳米石墨粉1-2份，高岭土1-3份，季戊四醇1-5份，氰尿酸三聚氰胺盐2-3份，蒙脱土1-3份，过氧化苯甲酰1-2份，乙酸正丁酯2-3份，氯化钙2-5份。本发明的化学机械研磨剂中包括亲水基表面洁性剂材料，可以降低化学机械研磨剂和正在水性薄膜间的表面张力，使化学机械研磨剂和琉水性薄膜更紧密贴合。

主权项

一种化学机械研磨组合物，其特征在于，包括下列重量份数的物质：水杨酸钠35‑40份，醋酸钠2‑7份，含氢硅油3‑8份，甲基硅油9‑15份，调节剂1‑3份，水性介质50‑55份，纳米石墨粉1‑2份，高岭土1‑3份，季戊四醇1‑5份，氰尿酸三聚氰胺盐2‑3份，蒙脱土1‑3份，过氧化苯甲酰1‑2份，乙酸正丁酯2‑3份，氯化钙2‑5份。