[发明专利]一种铕掺杂的铁酸铋薄膜及其制备方法和应用

摘要

本发明公开了一种铕掺杂的铁酸铋薄膜，其包括以镍酸镧为缓冲层的硅衬底和组成式为Bi_1-xEu_xFeO₃(0≤x≤0.07)的靶材，靶材沉积在衬底上。本发明还公开了铕掺杂的铁酸铋薄膜的制备方法，清洗衬底，将靶材和衬底置于镀膜室内，调节压强至5×10^-4Pa以下。以每分钟10℃使衬底升温至700℃；调节使溅射气压为10Pa；在温度700℃、氧压10Pa下保持10分钟。调节使衬底反转，靶材正转；衬底和靶材的距离为6cm。以脉冲激光器进行薄膜沉积60min，保温30min。以每分钟20℃的速度降温，至200℃取出得到铕掺杂的铁酸铋薄膜。本发明的制备方法反应过程易于控制，原料易得。本发明铕掺杂的铁酸铋薄膜的结晶性能、漏电性能明显得到改善，光学带隙变小，提高了BiFeO₃薄膜的光伏性能，具有广泛的应用前景。

主权项

一种铕掺杂的铁酸铋薄膜，其特征在于，包括衬底和靶材，所述靶材沉积在所述衬底上；其中，所述衬底是以镍酸镧为缓冲层的硅衬底，所述靶材组成式为Bi_1‑xEu_xFeO₃，0≤x≤0.07。