[发明专利]一种掩模板、曝光方法和曝光设备有效
| 申请号： | 201410059795.3 | 申请日： | 2014-02-21 |
| 公开（公告）号： | CN103885296A | 公开（公告）日： | 2014-06-25 |
| 发明（设计）人： | 马群;张琨鹏 | 申请（专利权）人： | 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B3/00 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;陈源 |
| 地址： | 017020 内蒙古自治*** | 国省代码： | 内蒙古;15 |
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| 摘要： | 本发明提供一种掩模板、曝光方法和曝光设备。该掩模板包括基板，基板包括透光图案和不透光图案，还包括光线汇聚扩散单元，光线汇聚扩散单元与透光图案相对应设置，用于使入射至透光图案区域的入射光线经过汇聚扩散之后，出射光线的传播方向和照射范围与入射光线相同。该掩模板通过设置光线汇聚扩散单元，使入射光线经过汇聚和扩散后，转换为传播方向和照射范围均与入射光线相同的出射光线，从而大大减小了衍射现象的发生，提高了曝光精度。该曝光设备由于采用了该掩模板，从而提高了其曝光精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 模板 曝光 方法 设备 | ||
【主权项】：
一种掩模板，包括基板，所述基板包括透光图案和不透光图案，其特征在于，还包括光线汇聚扩散单元，所述光线汇聚扩散单元与所述透光图案相对应设置，用于使入射至所述透光图案区域的入射光线经过汇聚扩散之后，出射光线的传播方向和照射范围与所述入射光线相同。
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