[发明专利]一种阵列基板及其制作方法、显示装置有效
| 申请号： | 201410058912.4 | 申请日： | 2014-02-20 |
| 公开（公告）号： | CN103838025A | 公开（公告）日： | 2014-06-04 |
| 发明（设计）人： | 徐传祥;舒适;齐永莲;张锋 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1333 | 分类号： | G02F1/1333;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种阵列基板及其制作方法、显示装置，采用本发明实施例提供的阵列基板的制作方法，实现一种彩色树脂层上孔径较小的过孔，从而提高像素的开口率。所述阵列基板的制作方法包括：在衬底基板上形成薄膜晶体管；在形成有所述薄膜晶体管的衬底基板上形成彩色树脂层；在所述彩色树脂层上形成具有遮光作用的第一光阻层，该第一光阻层的光刻分辨率大于所述彩色树脂层的光刻分辨率；对所述第一光阻层和彩色树脂层进行构图工艺在所述彩色树脂层上形成过孔。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 阵列 及其 制作方法 显示装置 | ||
【主权项】：
一种阵列基板的制作方法，其特征在于，包括：在衬底基板上形成薄膜晶体管；在形成有所述薄膜晶体管的衬底基板上形成彩色树脂层；在所述彩色树脂层上形成具有遮光作用的第一光阻层，该第一光阻层的光刻分辨率大于所述彩色树脂层的光刻分辨率；对所述第一光阻层和彩色树脂层进行构图工艺在所述彩色树脂层上形成过孔。
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