[发明专利]一种进行测量光谱与库光谱匹配的方法及其设备有效
申请号: | 201410016003.4 | 申请日: | 2014-01-14 |
公开(公告)号: | CN104778181B | 公开(公告)日: | 2018-08-10 |
发明(设计)人: | 陈慧萍;施耀明;徐益平 | 申请(专利权)人: | 睿励科学仪器(上海)有限公司 |
主分类号: | G06F17/30 | 分类号: | G06F17/30 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 郑立柱 |
地址: | 201203 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种在光学关键尺寸测量设备中进行测量光谱与库光谱匹配的方法,其中:A.根据已知的样品信息建立样品形貌模型M;B.获取被测样品的各个测量光谱Sn并求出平均测量光谱S0;C.求出所述各个测量光谱Sn与所述平均测量光谱S0间的均方差MSE,最大的均方差MSEm所对应的测量光谱为最远测量光谱Sm;D.根据所述平均测量光谱S0和最远测量光谱Sm确定光谱库中参与匹配的光谱的范围RS;E.在所述匹配范围RS内匹配所述各个测量光谱Sn,并得到所述各个测量光谱Sn的匹配参数Pn。 | ||
搜索关键词: | 一种 进行 测量 光谱 匹配 方法 及其 设备 | ||
【主权项】:
1.一种在光学关键尺寸测量设备中进行测量光谱与库光谱匹配的方法,其中:A.根据已知的样品信息建立样品形貌模型M;B.获取被测样品的各个测量光谱Sn并求出平均测量光谱S0;C.求出所述各个测量光谱Sn与所述平均测量光谱S0间的均方差MSE,最大的均方差MSEm所对应的测量光谱为最远测量光谱Sm;D.根据所述平均测量光谱S0和最远测量光谱Sm确定光谱库中参与匹配的光谱的范围RS;E.在所述匹配范围RS内匹配所述各个测量光谱Sn,并得到所述各个测量光谱Sn的匹配参数Pn。
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