[发明专利]顺式-5-羟基-2-哌啶羧酸衍生物的制造方法和顺式-5-羟基-2-哌啶羧酸的纯化方法在审
| 申请号： | 201380049701.8 | 申请日： | 2013-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN104662001A | 公开（公告）日： | 2015-05-27 |
| 发明（设计）人： | 前田智子;上原久俊;齐藤保代;村井真人 | 申请（专利权）人： | 株式会社API |
| 主分类号： | C07D211/60 | 分类号： | C07D211/60;C07D498/08;C12P7/42;C07B61/00;C07K14/21;C12N15/09 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 丁香兰;李洋 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的课题在于提供高纯度的顺式-5-羟基-2-哌啶羧酸的纯化方法及其衍生物的制造方法。本发明提供顺式-5-羟基-2-哌啶羧酸衍生物的制造方法和顺式-5-羟基-2-哌啶羧酸的纯化方法，其特征在于，该方法包括将顺式-5-羟基-2-哌啶羧酸转换为式(1)和/或式(2)(R1表示氨基的保护基，R2表示C1～C6的烷基)的化合物的工序。 | ||
| 搜索关键词： | 顺式 羟基 哌啶 羧酸 衍生物 制造 方法 纯化 | ||
【主权项】：
一种顺式‑5‑羟基‑2‑哌啶羧酸衍生物的制造方法，其特征在于，该方法包括以下工序：将顺式‑5‑羟基‑2‑哌啶羧酸转换为式(1)和/或式(2)的化合物，R1表示氨基的保护基，R2表示C1～C6的烷基。
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