[发明专利]导电结构和制造该导电结构的方法有效
| 申请号： | 201380044015.1 | 申请日： | 2013-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN104584143A | 公开（公告）日： | 2015-04-29 |
| 发明（设计）人： | 林振炯;金秀珍;金起焕 | 申请（专利权）人： | LG化学株式会社 |
| 主分类号： | H01B5/14 | 分类号： | H01B5/14;H01B13/00;G06F3/041 |
| 代理公司： | 北京金信知识产权代理有限公司 11225 | 代理人： | 朱梅;徐琳 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种包括基板、导电层和暗化层的导电结构体，以及制造该导电结构体的方法。所述导电结构体可以在不影响导电层的导电率的情况下，防止导电层造成的反射，通过提高吸光率而改善导电层的隐藏性。因此，所述导电结构体可以用于开发具有更高可见性的显示面板。 | ||
| 搜索关键词： | 导电 结构 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种导电结构体，包括：基板；导电层；以及暗化层，其对具有550nm至650nm波长的光中的至少一种波长的光满足以下等式1和2：[等式1]![]()
[等式2]![]()
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