[发明专利]用于处理基片的方法和托板在审

专利信息
申请号: 201380038943.7 申请日: 2013-02-13
公开(公告)号: CN104488075A 公开(公告)日: 2015-04-01
发明(设计)人: 托尼·罗杰斯;罗布·桑蒂利 申请(专利权)人: 应用微工程有限公司
主分类号: H01L21/683 分类号: H01L21/683
代理公司: 北京中誉威圣知识产权代理有限公司 11279 代理人: 席勇;丛芳
地址: 英国*** 国省代码: 英国;GB
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摘要: 发明公开了一种用于处理和/或运输基片的托板和方法,诸如在基片的加工过程中,例如,背面变薄。托板和方法为基片提供支撑。加工特别适合将用于3D集成电路的基片变薄。托板包括:接触表面,该接触表面中具有一个或多个凹槽,凹槽用于在接触表面向基片靠近时形成空间,接触表面用于支撑基片;密封表面,该密封表面位于接触表面的周缘并从接触表面偏出;以及密封元件,该密封元件放置在密封表面上,且密封元件被配置为当基片与接触表面接触时被压缩,以对基片形成密封,密封将基片和托板之间所形成的空间密封起来。
搜索关键词: 用于 处理 方法
【主权项】:
一种用于处理和/或运输基片的托板,诸如在基片的加工过程中,所述托板包括:接触表面,所述接触表面中具有一个或多个凹槽,所述凹槽用于在所述接触表面与所述基片接触时形成空间,所述接触表面用于接触和支撑所述基片;密封表面,所述密封表面位于所述接触表面的周缘并从所述接触表面偏出;以及密封元件,所述密封元件放置在所述密封表面上,且所述密封元件被配置为当所述基片与所述接触表面接触时被压缩,以对所述基片形成密封,所述密封将所述基片和所述托板之间所形成的空间密封起来。
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