[发明专利]用于处理基片的方法和托板在审
申请号: | 201380038943.7 | 申请日: | 2013-02-13 |
公开(公告)号: | CN104488075A | 公开(公告)日: | 2015-04-01 |
发明(设计)人: | 托尼·罗杰斯;罗布·桑蒂利 | 申请(专利权)人: | 应用微工程有限公司 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683 |
代理公司: | 北京中誉威圣知识产权代理有限公司 11279 | 代理人: | 席勇;丛芳 |
地址: | 英国*** | 国省代码: | 英国;GB |
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摘要: | 本发明公开了一种用于处理和/或运输基片的托板和方法,诸如在基片的加工过程中,例如,背面变薄。托板和方法为基片提供支撑。加工特别适合将用于3D集成电路的基片变薄。托板包括:接触表面,该接触表面中具有一个或多个凹槽,凹槽用于在接触表面向基片靠近时形成空间,接触表面用于支撑基片;密封表面,该密封表面位于接触表面的周缘并从接触表面偏出;以及密封元件,该密封元件放置在密封表面上,且密封元件被配置为当基片与接触表面接触时被压缩,以对基片形成密封,密封将基片和托板之间所形成的空间密封起来。 | ||
搜索关键词: | 用于 处理 方法 | ||
【主权项】:
一种用于处理和/或运输基片的托板,诸如在基片的加工过程中,所述托板包括:接触表面,所述接触表面中具有一个或多个凹槽,所述凹槽用于在所述接触表面与所述基片接触时形成空间,所述接触表面用于接触和支撑所述基片;密封表面,所述密封表面位于所述接触表面的周缘并从所述接触表面偏出;以及密封元件,所述密封元件放置在所述密封表面上,且所述密封元件被配置为当所述基片与所述接触表面接触时被压缩,以对所述基片形成密封,所述密封将所述基片和所述托板之间所形成的空间密封起来。
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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