[发明专利]带电粒子多子束光刻系统和冷却配置制造方法有效
申请号: | 201380037560.8 | 申请日: | 2013-05-14 |
公开(公告)号: | CN104471669B | 公开(公告)日: | 2017-02-22 |
发明(设计)人: | J.P.斯普伦杰斯;C.奥滕;R.贾杰;S.W.H.K.斯廷布林克;J.J.科宁;W.H.厄尔巴努斯;A.H.V.范维恩 | 申请(专利权)人: | 迈普尔平版印刷IP有限公司 |
主分类号: | H01J37/04 | 分类号: | H01J37/04;H01J37/317 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人: | 刘文洁 |
地址: | 荷兰*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供了一种带电粒子多子束光刻系统,包括用于生成子束的子束发生器、用于形成经调节子束的子束调制器,以及用于将经调制子束投影至目标表面上的子束投影器。发生器、调制器和/或投影器包括一个或多个设置有孔径的板,其孔径使子束通过板。孔径被分组,以形成波束区域,其区别于无子束孔径的非波束区域。具有孔径的板中至少一个设置有冷却配置(93),冷却配置被部署在其非波束区域中表面上。冷却配置包括板形主体,其具有用于接收冷却液体的入口(31)、用于在其中运送冷却液体的多个冷却通路(94),以及用于移除冷却液体的出口(35)。在冷却通路之间,板形主体具有与波束区域对准的缝隙(34)。 | ||
搜索关键词: | 带电 粒子 多子束 光刻 系统 冷却 配置 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种使用多个带电粒子子束(7)曝光目标(13)的带电粒子多子束光刻系统(1),该系统包括:子束发生器(2),用于生成所述带电粒子子束;子束调制器(8),用于使所述子束图案化以形成经调制的子束;子束投影器(12),用于将所述经调制的子束投影至所述目标的表面上;其中,所述子束发生器、子束调制器和/或子束投影器包括一个或多个板,所述板设置有多个孔径,所述孔径用于让所述子束通过所述板,所述孔径被布置成组以在所述一个或多个板的所述表面上形成多个波束区域(91),所述波束区域区别于多个非波束区域(92)并与所述多个非波束区域(92)分开,所述非波束区域不包含用于使所述子束通过的孔径;其中,在所述光刻系统中具有孔径的所述板中的至少一个设置有冷却配置(93),所述冷却配置被部署在其表面上的一个或多个非波束区域中,所述冷却配置包括设置有用于接收冷却液体的入口(31)的板形主体,被配置成使冷却液体在其中流动的多个冷却通路(94),和用于移除所述冷却液体的出口(35),其中,所述板形主体在所述冷却通路之间设置有多个槽(34),并且其中,所述槽与设置有孔径的所述板的表面上的所述波束区域对准;并且其中,所述入口和所述多个冷却通路经由单个分配通路彼此连接,所述单个分配通路包括用于分散冷却液体的分散部段(41),以及用于在所述多个冷却通路(94)上分割所述冷却液体的分割部段(42)。
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