[发明专利]磁性材料溅射靶及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201380010378.3 申请日: 2013-02-15
公开(公告)号: CN104145042A 公开(公告)日: 2014-11-12
发明(设计)人: 荒川笃俊;高见英生;中村祐一郎 申请(专利权)人: 吉坤日矿日石金属株式会社
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;G11B5/64;G11B5/851
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 王海川;穆德骏
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种磁性材料溅射靶,其特征在于,在观察靶中氧化物的平面内,靶中存在的氧化物颗粒的平均粒径为1.5μm以下,在观察靶中氧化物的平面内,在将位于氧化物颗粒外周上的任意两点的距离的最大值设为最大直径、将用平行的两条直线夹着该颗粒时两直线间距离的最小值设为最小直径时,最大直径与最小直径之差为0.4μm以下的氧化物颗粒在靶观察面内占60%以上。本发明可以得到能够抑制导致溅射时粉粒产生的氧化物异常放电的非磁性材料颗粒分散型磁性材料溅射靶。
搜索关键词: 磁性材料 溅射 及其 制造 方法
【主权项】:
一种磁性材料溅射靶,其为包含在含有Co或Fe的金属相中分散有氧化物颗粒的材料的磁性材料溅射靶,其特征在于,在观察靶中氧化物的平面内,靶中存在的氧化物颗粒的平均粒径为1.5μm以下,在将位于氧化物颗粒外周上的任意两点的距离的最大值设为最大直径、将用平行的两条直线夹着该颗粒时两直线间距离的最小值设为最小直径时,最大直径与最小直径之差为0.4μm以下的氧化物颗粒在靶观察面内占60%以上。
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