[实用新型]ITO镀膜移动式磁控溅射靶系统

摘要

ITO镀膜移动式磁控溅射靶系统，包括靶门、靶体和步进电机，靶门上转动连接有细螺纹的丝杆，丝杆上螺纹连接有固定连接在靶体背面的第一滑块，步进电机的动力输出端与丝杆的一端传动连接，靶门上设有均与丝杆平行的上导轨和下导轨，上导轨位于丝杆上方，下导轨位于丝杆下方，上导轨上滑动设有与靶体背面固定连接的第二滑块，下导轨上滑动设有与靶体背面固定连接的第三滑块。本实用新型通过对普通磁控溅射平面靶的改进，使其靶体在溅射镀膜过程中能够移动，从而使靶材表面的溅射区域更宽更均匀，由V字凹槽改进成U型槽，靶材的利用率明显提高，并提高生产效率，延长生产时间，经试验10天内无需换靶材；同时保留了磁控溅射的工艺优点。

主权项

ITO镀膜移动式磁控溅射靶系统，包括靶门和靶体，靶体背面与靶门直接设有绝缘件，其特征在于：还包括步进电机，所述靶门上设有两个轴承座，两个轴承座之间通过轴承转动连接有细螺纹的丝杆，丝杆水平设置，丝杆上螺纹连接有固定连接在靶体背面的第一滑块，步进电机的动力输出端与丝杆的一端传动连接，靶门上设有均与丝杆平行的上导轨和下导轨，上导轨位于丝杆上方，下导轨位于丝杆下方，上导轨上滑动设有与靶体背面固定连接的第二滑块，下导轨上滑动设有与靶体背面固定连接的第三滑块。