[实用新型]特气管路装置和PECVD设备有效
申请号: | 201320384940.6 | 申请日: | 2013-06-28 |
公开(公告)号: | CN203307432U | 公开(公告)日: | 2013-11-27 |
发明(设计)人: | 陈哲;徐莉;范志东 | 申请(专利权)人: | 英利能源(中国)有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/513 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 吴贵明;张永明 |
地址: | 071051 河*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种特气管路装置和PECVD设备。特气管路装置包括特气槽和至少一路特气管路,特气管路均设置在特气槽的下方,每路特气管路包括:多组分支特气管路,多组分支特气管路沿特气槽的长度方向布置并沿特气槽的长度方向排列;多个流量计,多个流量计与多组分支特气管路一一对应地设置。当硅片出现片间色差时,工作人员可以通过调节某一流量计,而控制相应的分支特气管路的进气量,从而使每个分支特气管路的排气量具有可调性,进而控制或减小各硅片的片间色差,提高了产品的成品率。由于不再需要频繁对特气管路装置进行维护,因而保证了生产进度、提高了工作效率、降低了设备维护成本。 | ||
搜索关键词: | 管路 装置 pecvd 设备 | ||
【主权项】:
一种特气管路装置,包括特气槽(10)和至少一路特气管路,所述特气管路均设置在所述特气槽(10)的下方,其特征在于,每路所述特气管路包括:多组分支特气管路(20),多组所述分支特气管路(20)沿所述特气槽(10)的长度方向布置并沿所述特气槽(10)的长度方向排列;多个流量计(30),多个所述流量计(30)与多组所述分支特气管路(20)一一对应地设置。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的