[实用新型]特气管路装置和PECVD设备有效
申请号: | 201320384940.6 | 申请日: | 2013-06-28 |
公开(公告)号: | CN203307432U | 公开(公告)日: | 2013-11-27 |
发明(设计)人: | 陈哲;徐莉;范志东 | 申请(专利权)人: | 英利能源(中国)有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/513 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 吴贵明;张永明 |
地址: | 071051 河*** | 国省代码: | 河北;13 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 管路 装置 pecvd 设备 | ||
技术领域
本实用新型涉及太阳能电池技术领域,更具体地,涉及一种特气管路装置和PECVD设备。
背景技术
氮化硅薄膜具有高化学稳定性、高电阻率、绝缘性好、硬度高、光学性能良好等特性,在太阳能电池上得到广泛的应用。目前,平板式PECVD和管式PECVD在工业生产中得到了广泛应用。相对管式PECVD,平板式PECVD有着均匀性好和产量高的特点,因而得到广泛地应用。
现有技术中的PECVD设备,包括多个特气管路装置,多个所述特气管路装置沿第一方向依次并列设置。每个特气管路装置均包括特气槽和特气管路,特气管路设置在特气槽的下方。特气管路上设置有流量计,工作人员通过流量计调节特气管路的进气量。
现有技术中,当PECVD设备运行一段时间后,特气管路的特气孔会因沉积氮化硅和硅颗粒而发生不同程度的堵塞,从而导致各个硅片的氮化硅膜层厚度不一,产生片间色差,造成生产浪费。此时,工作人员需要及时对PECVD设备进行维护,这样不仅耽误了生产进度、降低了工作效率、增加了设备维护的成本,还同时影响了产品的成品率。
相关术语解释:
PECVD:等离子增强型化学气相沉积(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)是借助微波使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。
特气:平板式PECVD中通入的硅烷(SiH4)和氨气(NH3)。
片间色差:同一石墨舟上镀膜后片与片之间的膜厚与颜色差别。
实用新型内容
本实用新型旨在提供一种特气管路装置和PECVD设备,以解决现有技术中为减小片间色差需要经常清理特气管路装置而耽误生产进度的问题。
为解决上述技术问题,根据本实用新型的一个方面,提供了一种特气管路装置,包括特气槽和至少一路特气管路,特气管路均设置在特气槽的下方,每路特气管路包括:多组分支特气管路,多组分支特气管路沿特气槽的长度方向布置并沿特气槽的长度方向排列;多个流量计,多个流量计与多组分支特气管路一一对应地设置。
进一步地,每组分支特气管路均包括:主管路,每个主管路上均对应设置有一个流量计;排气管路,排气管路的侧壁具有连通孔,排气管路通过连通孔与主管路的第一端连通,排气管路的两端均密封,且排气管路的侧壁上还具有多个特气孔。
进一步地,特气槽的两侧均设置有多个第一槽孔,每组分支特气管路的排气管路的个数为两个,两个排气管路与特气槽的两侧一一对应设置,且多个特气孔与多个第一槽孔一一对应设置。
进一步地,每组分支特气管路还包括:第一支管路,第一支管路的第一端与两个排气管路中的一个排气管路的连通孔连通;第二支管路,第二支管路的第一端与两个排气管路中的另一个排气管路的连通孔连通,且第一支管路的第二端、第二支管路的第二端均与主管路的第一端连通,第一支管路与第二支管路之间形成夹角区,特气槽的底部位于夹角区内。
进一步地,特气槽的底部具有多个第二槽孔,多个特气孔与多个第二槽孔一一对应地设置。
进一步地,特气管路装置还包括石英管,石英管设置在特气槽内。
进一步地,至少一路特气管路包括与特气槽的两侧对应设置的第一特气管路以及与特气槽的底部对应设置的第二特气管路。
进一步地,多组分支特气管路的组数为三组。
根据本实用新型的另一个方面,提供了一种PECVD设备,包括腔室和多个特气管路装置,多个特气管路装置沿第一方向依次并列设置在腔室中,多个特气管路装置中的至少一个特气管路装置是上述的特气管路装置。
进一步地,PECVD设备是平板式PECVD设备。
本实用新型中的特气管路均设置在特气槽的下方,每路特气管路包括多组分支特气管路和多个流量计,多个流量计与多组分支特气管路一一对应地设置,且多组分支特气管路沿特气槽的长度方向布置并沿特气槽的长度方向排列。当硅片出现片间色差时,工作人员可以通过调节某一流量计,而控制相应的分支特气管路的进气量,从而使每个分支特气管路的排气量具有可调性,进而控制或减小各硅片的片间色差,提高了产品的成品率。由于不再需要频繁对特气管路装置进行维护,因而保证了生产进度、提高了工作效率、降低了设备维护成本。同时,本实用新型中的特气管路装置具有结构简单、制造成本低的特点。
附图说明
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于英利能源(中国)有限公司,未经英利能源(中国)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201320384940.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种酸性蚀刻废液的再生处理系统
- 下一篇:一种真空镀膜机的真空室旋转传送机构
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的