[实用新型]真空磁控溅射用旋转阴极靶有效
| 申请号： | 201320302774.0 | 申请日： | 2013-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN203320120U | 公开（公告）日： | 2013-12-04 |
| 发明（设计）人： | 肖世文;黄建威;肖盛荣 | 申请（专利权）人： | 广州市尤特新材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人： | 谭英强 |
| 地址： | 510880 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种真空磁控溅射用旋转阴极靶，包括管状的衬管和套设在衬管外壁上并随衬管旋转的靶材，所述衬管外壁上设有外螺纹，所述靶材内壁设有与外螺纹配合连接的内螺纹。本实用新型衬管外壁设有外螺纹，靶材内壁设有内螺纹，两者通过螺纹连接后，使得靶材的安装非常方便，而且当靶材将要耗竭而无法继续使用时，亦容易从衬管中分离以回收利用，未使用的靶材也就能旋入衬管中使用，使得衬管可以重复利用，大大节省了材料的损耗，节省了成本。本实用新型可应用于真空磁控溅射。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 磁控溅射 旋转 阴极 | ||
【主权项】：
一种真空磁控溅射用旋转阴极靶，其特征在于：包括管状的衬管(1)和套设在衬管(1)外壁上并随衬管(1)旋转的靶材(2)，所述衬管(1)外壁上设有外螺纹，所述靶材(2)内壁设有与外螺纹配合连接的内螺纹。
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