[发明专利]一种新型的有机碱微蚀液无效
| 申请号： | 201310734942.8 | 申请日： | 2013-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN103695908A | 公开（公告）日： | 2014-04-02 |
| 发明（设计）人： | 肖红星;孙宝林;程一鸣;李再强;邹毅芳;张锐 | 申请（专利权）人： | 东莞市广华化工有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/44 | 分类号： | C23F1/44 |
| 代理公司： | 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348 | 代理人： | 王伟锋;刘铁生 |
| 地址： | 523000 广东省东莞市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及印制电路板制造中制作线路的蚀刻液技术领域，特别是涉及到通过半加成法形成线路的一种新型的有机碱微蚀液；它由含量为以下质量百分数的组分组成：二价铜离子化化合物0.1%~15%；有机碱1%~40%；络合添加剂0.0001%~10%；卤素化合物0.0001%~5%；水余量；以上组分的质量百分数之和为100%；所述二价铜离子化化合物按铜离子质量计算，所述卤素化合物按卤素离子质量计算。本发明能蚀刻干净种子铜层，并且对镍层和金层零损伤，同时抑制对线路铜层的过蚀和底层下切。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 新型 有机 碱微蚀液 | ||
【主权项】：
一种新型的有机碱微蚀液，其特征在于，它由含量为以下质量百分数的组分组成：二价铜离子化化合物 0.1%~15%；有机碱 1%~40%；络合添加剂 0.0001%~10%；卤素化合物 0.0001%~5%；水 余量；所述二价铜离子化化合物按铜离子质量计算，所述卤素化合物按卤素离子质量计算。
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