[发明专利]一种低温去除硅中硼磷的方法无效

专利信息
申请号: 201310637020.5 申请日: 2013-12-02
公开(公告)号: CN103693647A 公开(公告)日: 2014-04-02
发明(设计)人: 李京伟;陈健;张涛涛;白枭龙;李彦磊;班伯源 申请(专利权)人: 中国科学院等离子体物理研究所
主分类号: C01B33/037 分类号: C01B33/037
代理公司: 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 34112 代理人: 余成俊
地址: 230031 安徽*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明是一种低温去除硅中硼磷的方法,属于高纯硅的生产技术领域。该方法利用硅在镓基合金液中的重结晶净化硅中的硼磷杂质。该方法将工业硅与镓基合金加热完全共熔,冷却使硅重结晶析出,酸洗将重结晶硅分离,可得硼磷浓度低的高纯硅。该方法的重结晶温度为100-1400℃,硅损失量小于5%。与目前冶金法净化硅相比,可实现硼、磷杂质同步快速去除,操作温度降低600-1900℃。
搜索关键词: 一种 低温 去除 硅中硼磷 方法
【主权项】:
一种低温去除硅中硼磷的方法,其特征在于包括以下步骤:(1)将工业硅粉与镓基合金混合加热,直至完全熔化为液体,将液相混合物冷却,使硅重结晶析出,得到硅合金,其中硅粉与镓基合金的重量比为1:0.1‑1:100,加热熔化温度为100‑1400℃,重结晶的冷却速率为0.01‑100℃/min;    (2)将步骤(1)得到的硅合金固液分离得到重结晶硅颗粒;    (3)将步骤(2)得到的重结晶硅颗粒,用酸酸洗,其中酸浓度为0.1‑100wt%,硅与酸的重量比为1:0.1‑1:200,酸洗温度为10‑100℃,酸洗时间为0.5‑100h;用去离子水漂洗、烘干,得到硼、磷杂质低的纯硅。
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