[发明专利]确定掩模图案和曝光条件的方法以及计算机

摘要

本发明涉及确定掩模图案和曝光条件的方法以及计算机。一种确定方法包括如下步骤：设定用于定义掩模的多个图案元素的形状的第一参数；设定用于定义有效光源分布的第二参数；以及在改变第一参数和第二参数的值的同时重复掩模图案的图像的计算以及评价项目的值的计算的过程，由此确定有效光源分布以及掩模图案，其中通过使用表示邻近效应的指标的值将图案元素的参数设定作为一个参数。

主权项

一种用于通过使用计算机确定由照明光学系统形成的有效光源分布以及用在曝光设备中的掩模的图案的确定方法，所述曝光设备包括被配置为使用来自光源的光照射掩模的照明光学系统和被配置为将掩模的多个图案元素的图像投影到衬底上的投影光学系统，所述方法包括如下的步骤：设定用于评价在投影光学系统的像面上的掩模的多个图案元素的图像的评价位置、以及用于在评价位置处评价的评价项目；设定用于定义掩模的多个图案元素的形状的第一参数；设定用于定义有效光源分布的第二参数；以及在改变第一参数和第二参数的值的同时重复掩模的多个图案元素的图像的计算以及评价项目的值的计算的过程，由此确定有效光源分布以及掩模的图案，其中在设定第一参数的步骤中，掩模的多个图案元素中的图案元素的参数通过使用表示邻近效应的指标的值被设定作为一个参数，所述邻近效应为掩模的多个图案元素中的与评价图案元素相邻的相邻图案元素对评价图案元素的评价位置处的评价图案元素的图像所具有的邻近效应。