[发明专利]电子照相感光体、处理盒和成像装置有效
| 申请号： | 201310549351.3 | 申请日： | 2013-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN103969974B | 公开（公告）日： | 2019-09-27 |
| 发明（设计）人： | 是永次郎;中村博史;中村光秀 | 申请（专利权）人： | 富士施乐株式会社 |
| 主分类号： | G03G5/14 | 分类号： | G03G5/14;G03G21/18;G03G15/00 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 丁业平;常海涛 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种电子照相感光体，其包括：导电基材；底涂层，该底涂层设置在所述导电基材上，并且包含粘结剂树脂、金属氧化物颗粒、和含有酸性基团的电子接受性化合物；以及感光层，该感光层设置在所述底涂层上，其中，当所述底涂层的厚度为20μm时，所述底涂层对波长为1000nm的光的透射率T1、所述底涂层对波长为650nm的光的透射率T2、以及所述底涂层对所述电子接受性化合物在300nm至1000nm的波长范围内具有最大吸收峰波长的光的透射率T3满足下列表达式（1）和（2）：表达式（1）：5≤T1/T2≤40表达式（2）：0.25≤‑log10(T3)。 | ||
| 搜索关键词： | 电子 照相 感光 处理 成像 装置 | ||
【主权项】：
1.一种电子照相感光体，包括：导电基材；底涂层，该底涂层设置在所述导电基材上，并且包括粘结剂树脂、金属氧化物颗粒、和含有酸性基团的电子接受性化合物；以及感光层，该感光层设置在所述底涂层上；其中，当所述底涂层的厚度为20μm时，所述底涂层对波长为1000nm的光的透射率T1、所述底涂层对波长为650nm的光的透射率T2、以及所述底涂层对所述电子接受性化合物在300nm至1000nm的波长范围内具有最大吸收峰波长的光的透射率T3满足以下表达式（1）和（2）：表达式（1）：5≤T1/T2≤40表达式（2）：0.25≤‑log10(T3)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士施乐株式会社，未经富士施乐株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201310549351.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种橡胶助剂的生产设备
- 下一篇：一种旋转柱塞式秸秆制粒机
