[发明专利]基于硅基的光无源集成器件设计平台及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201310492016.4 申请日: 2013-10-18
公开(公告)号: CN103560133A 公开(公告)日: 2014-02-05
发明(设计)人: 袁晓君;徐艳平;廖鹏 申请(专利权)人: 绵阳芯联芯通信科技有限公司
主分类号: H01L27/04 分类号: H01L27/04;H01L21/822;H01L21/70
代理公司: 四川省成都市天策商标专利事务所 51213 代理人: 罗韬
地址: 621000 四川省*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种基于硅基的光无源集成器件设计平台及其制作方法,属一种用于光纤通讯的元件,包括芯片衬底,芯片衬底的材质为硅基材料;芯片衬底的上方涂覆有下缓冲层,下缓冲层的上方还涂覆有上缓冲层,所述下缓冲层与上缓冲层之间还设有芯层;所述芯层由下缓冲层与上缓冲层完全包覆;芯层上设有呈图案状的引导光路。通过采用硅基材料替代石英作为芯片衬底,由于硅基的硬度比石英要高,且价格便宜,因此可有效降低光波导分路器芯片的生产成本,而增设的上下缓冲层可保证芯片薄膜厚度以及折射率均匀性,且增加芯片薄膜的致密性和粘附性,通过将芯层的折射率控制在一个较高的范围内,可以大大减少光无源集成电路的尺寸,提高单片晶圆的器件产率。
搜索关键词: 基于 无源 集成 器件 设计 平台 及其 制作方法
【主权项】:
一种基于硅基的光无源集成器件设计平台,包括芯片衬底(1),其特征在于:所述芯片衬底(1)的材质为硅基材料;所述芯片衬底(1)的上方涂覆有下缓冲层(3),所述下缓冲层(3)的上方还涂覆有上缓冲层(2),所述下缓冲层(3)与上缓冲层(2)之间还设有芯层(4);所述芯层(4)由下缓冲层(3)与上缓冲层(2)完全包覆;所述芯层(4)上设有呈图案状的引导光路。
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