[发明专利]Zr基储氢合金沉积Pd膜的方法及化学镀镀液有效
申请号: | 201310407822.7 | 申请日: | 2013-09-09 |
公开(公告)号: | CN103668133A | 公开(公告)日: | 2014-03-26 |
发明(设计)人: | 张铁邦;张眯;胡锐;李金山;寇宏超;薛祥义;王军;唐斌 | 申请(专利权)人: | 西北工业大学 |
主分类号: | C23C18/31 | 分类号: | C23C18/31;C23C18/18 |
代理公司: | 西北工业大学专利中心 61204 | 代理人: | 慕安荣 |
地址: | 710072 *** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明公开了一种Zr基储氢合金沉积Pd膜的方法及化学镀镀液。所述化学镀的镀液包括NH3.H2O、NH4Cl、钯盐Pd(NH3)4Cl2、Na2EDTA、N2H4.H2O混合后加入去离子水得到,通过表面前处理,在Zr基合金颗粒上化学镀,可延长镀液寿命,提高了镀液的稳定性,且沉积速度快,成本低,所得钯膜中未发现杂质,所制备的镀层纯度高,获得良好的效果。 | ||
搜索关键词: | zr 基储氢 合金 沉积 pd 方法 化学 镀镀液 | ||
【主权项】:
一种Zr基储氢合金沉积Pd膜的方法,其特征在于,具体步骤是:步骤1,合金颗粒基体的表面处理;步骤2,化学镀前对合金颗粒基体的预处理;所述的化学镀前对合金颗粒基体的预处理包括对合金颗粒基体进行酸洗、活化敏化、还原和烘干,使所述ZrV2合金颗粒表面具有足够均匀的活性位,并保持化学镀溶液的稳定性;具体过程是:a.酸洗;将ZrV2合金颗粒置于酸洗液中搅拌清洗;酸洗液温度为70℃,保温1h后取出ZrV2合金颗粒,再将ZrV2合金颗粒置于70℃的去离子水中清洗,得到清洗后的ZrV2合金颗粒;b.活化敏化;将清洗后的ZrV2合金颗粒置于敏化液中超声波清洗;将经过超声波清洗后的ZrV2合金颗粒置于去离子水中超声波清洗;将经过超声波清洗的ZrV2合金颗粒放入1%的氨水中超声波清洗后,将所述ZrV2合金颗粒置于去离子水中再次超声波清洗;将经过超声波清洗的ZrV2合金颗粒置于活化液中超声波搅拌清洗后,再将该ZrV2合金颗粒置于去离子水中超声波清洗,得到表面有足够均匀的活性位的ZrV2合金颗粒;c.还原;施镀前,将操作b中活化后的ZrV2合金颗粒浸入还原剂中还原,防止镀液污染;d.还原后取出ZrV2合金颗粒,再将ZrV2合金颗粒置于去离子水中清洗后,加热烘干;步骤3,在ZrV2合金颗粒表面沉积Pd膜;将烘干后的ZrV2合金颗粒置于镀液中,进行化学镀;化学镀的过程具体过程是:将ZrV2合金颗粒置于配置好的镀液中,将镀液放入水浴锅中加热至50℃,用NaOH稀溶液将镀液PH值调节至10~11,并将镀液保温2~3h;保温结束后,得到沉积有Pd膜的ZrV2合金颗粒。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
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C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
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