[发明专利]气体吸排单元及具备该气体吸排单元的原子层沉积装置

摘要

本发明涉及气体吸排单元及具备该气体吸排单元的原子层沉积装置。气体吸排单元可以包括：内部形成有供气流道的供气管；在内部形成与所述供气流道连通的排气流道的排气管；围绕所述排气管的外周面的至少一部分，从而在内部形成吸气流道的吸气管。因此，当配置在与基板临近的位置时，能够同时完成对气体的供给和吸入。由此，可在常压下形成沉积，因此不需要用于确保真空的其他装置以及时间。而且，可进行连续性工序，可将前后处理进行在一条线上，并且通过设置多个源气体吸排单元，可形成多组分化合物。此时，可根据各个源气体的分解温度分别选择热源种类以及被供应的热能量。

主权项

一种气体吸排单元，其包括：供气管，内部形成有供气流道；排气管，内部形成有与所述供气流道连通的排气流道；吸气管，其围绕所述排气管的外周面的至少一部分，从而使吸气流道形成在所述吸气管的内部。