[发明专利]喷淋头以及反应腔无效
申请号: | 201310347662.1 | 申请日: | 2013-08-09 |
公开(公告)号: | CN103397310A | 公开(公告)日: | 2013-11-20 |
发明(设计)人: | 黄允文;谭华强;乔徽;林翔;苏育家 | 申请(专利权)人: | 光垒光电科技(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/34 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 郑玮 |
地址: | 200050 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种喷淋头以及反应腔。所述反应腔包括气体反应区域,所述喷淋头邻近所述反应区域设置,所述喷淋头用于向所述反应区域输出反应气体;其中,所述喷淋头中或者反应腔外设置有一磁性材料层,使得喷淋头出气面下方的反应区域中形成磁场,所述磁场使得反应区域中向出气面运动的反应气体发生偏转,从而减少到达喷淋头出气面表面的反应气体离子量,从而减少在出气面的沉积。 | ||
搜索关键词: | 喷淋 以及 反应 | ||
【主权项】:
一种应用于沉积III‑V族材料反应腔的喷淋头,所述反应腔包括气体反应区域,所述喷淋头邻近所述反应区域设置,所述喷淋头用于向所述反应区域输出反应气体;其特征在于,所述喷淋头设置有一磁性材料层,使得喷淋头的出气面下方的反应区域中形成磁场,所述磁场使得反应区域中向出气面运动的反应气体发生偏转。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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