[发明专利]喷淋头以及反应腔无效
申请号: | 201310347662.1 | 申请日: | 2013-08-09 |
公开(公告)号: | CN103397310A | 公开(公告)日: | 2013-11-20 |
发明(设计)人: | 黄允文;谭华强;乔徽;林翔;苏育家 | 申请(专利权)人: | 光垒光电科技(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/34 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 郑玮 |
地址: | 200050 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 喷淋 以及 反应 | ||
1.一种应用于沉积III-V族材料反应腔的喷淋头,所述反应腔包括气体反应区域,所述喷淋头邻近所述反应区域设置,所述喷淋头用于向所述反应区域输出反应气体;其特征在于,所述喷淋头设置有一磁性材料层,使得喷淋头的出气面下方的反应区域中形成磁场,所述磁场使得反应区域中向出气面运动的反应气体发生偏转。
2.如权利要求1所述的喷淋头,其特征在于,所述喷淋头包括叠置的III族源腔和V族源腔,所述V族源腔较III族源腔临近所述反应区域;所述III族源腔包括第一气管,所述第一气管贯穿所述V族源腔以将III族源气传送至反应区域,所述V族源腔包括第二气管,所述第二气管将V族源气传送至反应区域。
3.如权利要求2所述的喷淋头,其特征在于,所述磁性材料层为一多孔板,设置于所述III族源腔中,作为所述III族源腔中的气体扩散板。
4.如权利要求3所述的喷淋头,其特征在于,所述磁性材料层包括多条相互平行并且间隔设置的磁条,所述磁条的两端分别为N极和S极,每条所述磁条的N极和S极朝向相同;相邻的磁条由连接板固定,所述连接板中设有多个通孔,用于使得从所述III族源腔中顶端输入的气体先经过所述磁性材料层分配后再扩散开来。
5.如权利要求2所述的喷淋头,其特征在于,所述喷淋头还包括一冷却腔,所述冷却腔位于所述III族源腔和V族源腔之间,所述磁性材料层设置于所述冷却腔远离所述出气面的一侧。
6.如权利要求5所述的喷淋头,其特征在于,所述磁性材料层包括多条相互平行并且间隔设置的磁条,所述磁条的两端分别为N极和S极,每条所述磁条的N极和S极朝向相同;相邻的磁条由连接板固定,所述连接板中设有多个通孔,所述第一气管还贯穿所述通孔和所述冷却腔。
7.如权利要求3或5所述的喷淋头,其特征在于,所述磁条为永磁体或者电磁铁。
8.如权利要求1-6中任一项所述的喷淋头,其特征在于,所述磁性材料层在所述喷淋头出气面下方形成平行所述出气面的磁场。
9.一种反应腔,其包括腔体、用于装载衬底的托盘和喷淋头,所述托盘设置于所述腔体中的底部,所述喷淋头设置在所述腔体中的顶部并与所述托盘相对设置,所述托盘与所述喷淋头之间限定气体反应区域,所述喷淋头用于向所述反应区域输出反应气体,其特征在于,所述喷淋头为如权利要求1-8中任意一项所述的喷淋头。
10.如权利要求9所述的反应腔,其特征在于,所述反应腔进一步包括加热器,所述加热器设置于所述托盘背离所述反应区域一侧,用于加热所述托盘。
11.一种反应腔,其包括腔体、用于装载衬底的托盘和喷淋头,所述托盘设置于所述腔体中的底部,所述喷淋头设置在所述腔体中的顶部并与所述托盘相对设置,所述托盘与所述喷淋头之间限定气体反应区域,所述喷淋头用于向所述反应区域输出反应气体,其特征在于,还包括一磁性材料层,所述磁性材料层设置于所述腔体的顶壁外侧,且正对所述喷淋头的区域。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的