[发明专利]多层芯片堆叠结构及其实现方法有效

专利信息
申请号: 201310333411.8 申请日: 2013-08-02
公开(公告)号: CN103400830A 公开(公告)日: 2013-11-20
发明(设计)人: 宋崇申 申请(专利权)人: 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司
主分类号: H01L25/065 分类号: H01L25/065;H01L23/48;H01L21/98;H01L21/768
代理公司: 上海海颂知识产权代理事务所(普通合伙) 31258 代理人: 任益
地址: 214135 江苏省无锡市菱*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种多层芯片堆叠结构,至少包含三层芯片,中间层芯片内包含TSV,在至少一个中间层芯片之外区域加工有穿透介质层的金属柱,直接实现非邻近层的通讯。还公开了两种多层芯片堆叠的实现方法,本发明在使用TSV的同时,在中间层芯片之外的区域,制作穿透介质层的垂直导电通道,直接实现跨层通讯,不仅降低了内层芯片的压力,也为系统设计提供了更多自由度。
搜索关键词: 多层 芯片 堆叠 结构 及其 实现 方法
【主权项】:
一种多层芯片堆叠结构,至少包含三层芯片,其特征在于:中间层芯片内包含TSV,在至少一个中间层芯片之外区域加工有穿透介质层的金属柱,直接实现非邻近层的通讯。
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