[发明专利]一种阵列基板及其制作方法和显示面板有效
| 申请号： | 201310311647.1 | 申请日： | 2013-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN103412444A | 公开（公告）日： | 2013-11-27 |
| 发明（设计）人： | 郭建;刘建涛 | 申请（专利权）人： | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1339 | 分类号： | G02F1/1339;H01L27/12;H01L21/77 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 100176 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种阵列基板及其制作方法和显示面板，用以解决现有技术中因隔垫物破损导致的不良显示问题。所述方法包括：在衬底基板上形成扫描线和栅极；在所述扫描线和栅极的上方形成栅绝缘层；在所述栅绝缘层的上方形成有源层、数据线和隔垫物基材；在所述有源层、数据线和隔垫物基材所在层的上方形成钝化层；利用干法刻蚀法，在隔垫物基材的上方、需要设置隔垫物的位置对钝化层进行刻蚀，形成过孔，通过过孔中暴露的隔垫物基材与刻蚀过程中使用的刻蚀设备反应腔内的刻蚀气体形成的电场，牵引反应腔内刻蚀过程中产生的组分沉积到隔垫物基材表面，生成隔垫物。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 阵列 及其 制作方法 显示 面板 | ||
【主权项】：
一种阵列基板的制作方法，其特征在于，所述方法包括：在衬底基板上形成包括扫描线和栅极的图形；在所述包括扫描线和栅极的图形的上方形成栅绝缘层；在所述栅绝缘层的上方形成半导体薄膜、掺杂半导体薄膜和金属薄膜，通过构图工艺形成包括有源层、数据线和隔垫物基材的图形；在所述包括有源层、数据线和隔垫物基材的图形的上方形成钝化层；利用干法刻蚀法，在隔垫物基材的上方、需要设置隔垫物的位置对钝化层进行刻蚀，形成过孔，通过过孔中暴露的隔垫物基材与刻蚀过程中使用的刻蚀设备反应腔内的刻蚀气体形成的电场，牵引反应腔内刻蚀过程中产生的组分沉积到所述隔垫物基材表面，生成隔垫物。
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