[发明专利]投影光刻机照明装置和使用方法有效

专利信息
申请号: 201310307405.5 申请日: 2013-07-19
公开(公告)号: CN103399463A 公开(公告)日: 2013-11-20
发明(设计)人: 曾爱军;张运波;陈明星;王莹;黄惠杰 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人: 张泽纯
地址: 201800 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种投影光刻机的照明装置及使用方法,包括激光源,沿激光源输出光束方向依次是:扩束器、微镜阵列、快速反射镜、光阑阵列、微透镜阵列、照明镜组和反射镜,所述的微镜阵列的控制系统包括第一计算机和微镜阵列控制器,所述的快速反射镜的控制系统包括第二计算机和快速反射镜控制器,第一计算机通过微镜阵列控制器控制微镜阵列上各个微镜单元进行二维转动,使扩束后光束经过微镜阵列、快速反射镜反射后在光阑阵列上形成光刻所需的强度模式,第二计算机通过快速反射镜控制器控制快速反射镜的反射镜部分转动,使所形成的强度模式相对于光阑阵列移动。本发明大大简化了结构,提高了系统的稳定性和光能利用率。
搜索关键词: 投影 光刻 照明 装置 使用方法
【主权项】:
一种投影光刻机的照明装置,包括激光源(1),特征在于:其构成包括沿激光源(1)输出光束方向依次的扩束器(2)、微镜阵列(3)、快速反射镜(4)、光阑阵列(5)、微透镜阵列(6)、照明镜组(7)和反射镜(8),所述的微镜阵列(3)具有控制系统,该控制系统包括第一计算机(13)和微镜阵列控制器(12),所述的第一计算机(13)通过微镜阵列控制器(12)控制所述的微镜阵列(3)上各个微镜单元的二维转角,所述的快速反射镜(4)具有控制系统,该控制系统包括第二计算机(11)和快速反射镜控制器(10),所述的第二计算机(11)通过快速反射镜控制器(10)控制快速反射镜(4)上反射镜部分的一维转角,所述的光阑阵列(5)位于所述的微透镜阵列(6)的前焦面,所述的光阑阵列(5)外形为矩形,包含多个相同的长方形通孔,所有的长方形通孔按二维均匀分布,所有长方形通孔的长对称轴互相平行,长方形通孔的长度方向的尺寸d4小于或者等于两相邻长方形通孔的长度方向之间的间隔,所述的长方形通孔的宽度方向的尺寸d2小于或者等于两相邻长方形通孔的宽度方向之间的间隔,所述的微镜阵列(3)上所有的微镜单元的外形为相同的正方形。
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