[发明专利]一种无蚀刻痕的电容屏Sensor制作方法有效
申请号: | 201310302064.2 | 申请日: | 2013-07-18 |
公开(公告)号: | CN103365520A | 公开(公告)日: | 2013-10-23 |
发明(设计)人: | 唐桂昌 | 申请(专利权)人: | 四川世创达电子科技有限公司 |
主分类号: | G06F3/044 | 分类号: | G06F3/044 |
代理公司: | 成都蓉信三星专利事务所(普通合伙) 51106 | 代理人: | 涂凤霞 |
地址: | 610500 *** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开了一种无蚀刻痕的电容屏Sensor制作方法,包括(1)导电薄膜烘烤缩水,(2)电极处导电层蚀刻:采用酸刻或蚀刻膏蚀刻的方式,将导电薄膜需要布设电极区域的导电层蚀刻掉,(3)在已蚀刻区域布设电极,(4)将布设好电极的导电薄膜置于烤箱进行烘烤,(5)导电层中央蚀刻出Pattern。本发明改变了现有制作电容屏Sensor的步骤,将原来的导电薄膜→烘烤缩水→导电层蚀刻形成Pattern→电极制作(涉及烘烤)中,制作电极的步骤提前,Pattern的制作提后,这样Pattern制作后,不再经过高温烘烤,而避免了基材形变与导电层形变的不同,水波纹也随之消除。 | ||
搜索关键词: | 一种 蚀刻 电容 sensor 制作方法 | ||
【主权项】:
一种无蚀刻痕的电容屏Sensor制作方法,其特征在于:包括以下步骤:(1)导电薄膜烘烤缩水:将导电薄膜置于烤箱进行缩水,使导电薄膜中杂质吸收的水分析出,内部分子稳定,所述导电薄膜包括基材和设置在基材上的导电层;(2)电极处导电层蚀刻:采用酸刻或蚀刻膏蚀刻的方式,将导电薄膜需要布设电极区域的导电层蚀刻掉;(3)在已蚀刻区域布设电极;(4)将布设好电极的导电薄膜置于烤箱进行烘烤,烘干电极材料;(5)导电层中央蚀刻出Pattern,其中,蚀刻线的宽度小于75μm,蚀刻方式为酸刻、蚀刻膏蚀刻或干刻。
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