[发明专利]抗蚀图形的形成方法、图形形成方法、太阳能电池以及正型抗蚀组合物有效
| 申请号： | 201310076590.1 | 申请日： | 2013-03-11 |
| 公开（公告）号： | CN103309152B | 公开（公告）日： | 2018-08-28 |
| 发明（设计）人： | 富田浩明;吉井靖博;平井隆昭 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/039;H01L31/18 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 龚敏 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种抗蚀图形的形成方法，其包括：将正型抗蚀组合物涂布于包含太阳能电池基板的支承体上而形成抗蚀膜的工序，所述正型抗蚀剂含有酚醛清漆树脂(A)和感光剂(B)、且由所述的正型抗蚀剂形成的膜厚3μm的抗蚀膜的波长365nm的光的透射率为10％以上，所述感光剂(B)含有具有三(羟苯基甲烷骨架的酚类(B1)与含醌二叠氮基的磺酰化合物(B2)的酯化合物；对该抗蚀膜选择性地照射光而进行曝光的工序；和用碱性溶液将曝光后的该抗蚀膜显影而将曝光部分除去的工序。 | ||
| 搜索关键词： | 图形 形成 方法 太阳能电池 以及 正型抗蚀 组合 | ||
【主权项】：
1.一种抗蚀图形的形成方法，其特征在于，包括：将正型抗蚀组合物涂布于包含太阳能电池基板的、在表面具有凹部和凸部的支承体上而形成抗蚀膜的工序，其中，所述正型抗蚀组合物含有酚醛清漆树脂A和感光剂B、且由所述正型抗蚀组合物形成的膜厚3μm的抗蚀膜的波长365nm的光的透射率为10％以上，所述感光剂B含有具有三(羟苯基)甲烷骨架的酚类B1与含醌二叠氮基的磺酰化合物B2的酯化合物；对所述抗蚀膜选择性地照射光而进行曝光的工序；以及用碱性溶液将曝光后的所述抗蚀膜显影而将曝光部分除去的工序，所述抗蚀膜中，层叠于所述凹部上的部分的膜厚比层叠于所述凸部上的部分的膜厚大，在所述进行曝光的工序中，对层叠于所述凹部上的部分和层叠于所述凸部上的部分在膜厚上存在差别的所述抗蚀膜照射光。
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