[发明专利]基板处理装置有效

专利信息
申请号: 201310055320.2 申请日: 2013-02-21
公开(公告)号: CN103364478A 公开(公告)日: 2013-10-23
发明(设计)人: 高桥朋宏;荒木浩之 申请(专利权)人: 大日本网屏制造株式会社
主分类号: G01N27/60 分类号: G01N27/60;G01N1/28
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人: 董雅会;郭晓东
地址: 日本国京*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的基板处理装置,包括:循环路,包括贮存磷酸水溶液的处理槽、输送磷酸水溶液的循环泵、对磷酸水溶液进行加热的循环用加热器、对磷酸水溶液进行过滤的过滤器,使从处理槽排出的磷酸水溶液依次流过循环泵、循环用加热器、过滤器,并且使磷酸水溶液从过滤器返回上述处理槽中;分支管,在循环用加热器与过滤器之间从循环路分支,从循环路中提取磷酸水溶液;浓度测定部,与分支管相连通连接,通过电位差测定法测定磷酸水溶液中的硅浓度。
搜索关键词: 处理 装置
【主权项】:
一种基板处理装置,其特征在于,包括:循环路,包括贮存磷酸水溶液的处理槽、输送磷酸水溶液的循环泵、对磷酸水溶液进行加热的循环用加热器、对磷酸水溶液进行过滤的过滤器,用于使从上述处理槽排出的磷酸水溶液依次流过上述循环泵、上述循环用加热器、上述过滤器,并且使磷酸水溶液从上述过滤器返回上述处理槽中;分支管,在上述循环用加热器与上述过滤器之间从上述循环路分支,用于从上述循环路提取磷酸水溶液;浓度测定部,与上述分支管相连通连接,通过电位差测定法测定磷酸水溶液中的硅浓度。
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