[发明专利]一种卤化物熔盐电沉积制备Ni-Ti表面钽镀层的方法无效

专利信息
申请号: 201310018749.4 申请日: 2013-01-18
公开(公告)号: CN103060863A 公开(公告)日: 2013-04-24
发明(设计)人: 王德喜;石忠宁 申请(专利权)人: 沈阳瑞康达科技有限公司
主分类号: C25D3/66 分类号: C25D3/66
代理公司: 沈阳东大专利代理有限公司 21109 代理人: 梁焱
地址: 110179 辽宁省沈阳市*** 国省代码: 辽宁;21
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明属于材料表面改性和金属熔盐电沉积领域,特别涉及一种熔盐电沉积制备Ni-Ti表面钽镀层的方法,包括以下步骤:在氟化锂LiF、氯化锂LiCl、氟化钠NaF、氯化钠NaCl、氟化钾KF或氯化钾KCl中的任意至少两种化合物中,添加氟化钽TaF5、氯化钽TaCl5或氧化钽T2O5,组到电解质熔盐;以石墨为阳极,待镀Ni-Ti合金为阴极,在电解质熔盐的初晶温度之上5~30℃进行电沉积,电流密度0.1~0.5A/cm2,电解1~5h,在阴极表面得到致密的钽涂层。本发明的电沉积过程稳定,涂层牢固,粘接性能优良,涂层均匀且成本低廉,可以在形状复杂的Ni-Ti工件、器件表面制备涂层。
搜索关键词: 一种 卤化物 熔盐电 沉积 制备 ni ti 表面 镀层 方法
【主权项】:
一种卤化物熔盐电沉积制备Ni‑Ti表面钽镀层的方法,其特征在于包括以下步骤:(1)配制电解质:在氟化锂LiF、氯化锂LiCl、氟化钠NaF、氯化钠NaCl、氟化钾KF或氯化钾KCl中的任意至少两种化合物构成的熔盐中,添加氟化钽TaF5、氯化钽TaCl5或氧化钽T2O5,组成电解质;(2)电沉积制备钽涂层:以石墨为阳极,待镀Ni‑Ti合金为阴极,在上述电解质熔盐的初晶温度之上5~30℃进行电沉积,电流密度0.1~0.5A/cm2,电解1~5h,在阴极表面得到致密的钽涂层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于沈阳瑞康达科技有限公司,未经沈阳瑞康达科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310018749.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top