[发明专利]一种卤化物熔盐电沉积制备Ni-Ti表面钽镀层的方法无效
申请号: | 201310018749.4 | 申请日: | 2013-01-18 |
公开(公告)号: | CN103060863A | 公开(公告)日: | 2013-04-24 |
发明(设计)人: | 王德喜;石忠宁 | 申请(专利权)人: | 沈阳瑞康达科技有限公司 |
主分类号: | C25D3/66 | 分类号: | C25D3/66 |
代理公司: | 沈阳东大专利代理有限公司 21109 | 代理人: | 梁焱 |
地址: | 110179 辽宁省沈阳市*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本发明属于材料表面改性和金属熔盐电沉积领域,特别涉及一种熔盐电沉积制备Ni-Ti表面钽镀层的方法,包括以下步骤:在氟化锂LiF、氯化锂LiCl、氟化钠NaF、氯化钠NaCl、氟化钾KF或氯化钾KCl中的任意至少两种化合物中,添加氟化钽TaF5、氯化钽TaCl5或氧化钽T2O5,组到电解质熔盐;以石墨为阳极,待镀Ni-Ti合金为阴极,在电解质熔盐的初晶温度之上5~30℃进行电沉积,电流密度0.1~0.5A/cm2,电解1~5h,在阴极表面得到致密的钽涂层。本发明的电沉积过程稳定,涂层牢固,粘接性能优良,涂层均匀且成本低廉,可以在形状复杂的Ni-Ti工件、器件表面制备涂层。 | ||
搜索关键词: | 一种 卤化物 熔盐电 沉积 制备 ni ti 表面 镀层 方法 | ||
【主权项】:
一种卤化物熔盐电沉积制备Ni‑Ti表面钽镀层的方法,其特征在于包括以下步骤:(1)配制电解质:在氟化锂LiF、氯化锂LiCl、氟化钠NaF、氯化钠NaCl、氟化钾KF或氯化钾KCl中的任意至少两种化合物构成的熔盐中,添加氟化钽TaF5、氯化钽TaCl5或氧化钽T2O5,组成电解质;(2)电沉积制备钽涂层:以石墨为阳极,待镀Ni‑Ti合金为阴极,在上述电解质熔盐的初晶温度之上5~30℃进行电沉积,电流密度0.1~0.5A/cm2,电解1~5h,在阴极表面得到致密的钽涂层。
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