[实用新型]一种多靶磁控溅射镀膜机的溅射压力系统有效
申请号: | 201220731637.4 | 申请日: | 2012-12-27 |
公开(公告)号: | CN203144508U | 公开(公告)日: | 2013-08-21 |
发明(设计)人: | 张伟 | 申请(专利权)人: | 上海米开罗那机电技术有限公司;北京米开罗那机电技术有限责任公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人: | 王敏杰 |
地址: | 201315 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种多靶磁控溅射镀膜机的溅射压力系统。它包括可编程控制器、气体压力/流量控制仪、质量流量计、比例调节阀、隔断阀、高真空角阀、薄膜压力规和真空溅射腔室;真空溅射腔室的前、后门各有三个阴极平行分布;还具有六个阴极质量流量控制器和六个阴极隔断阀;高纯氩气经气体稳压装置后分别接各阴极质量流量控制器的进气口;各阴极质量流量控制器的出气口分别接各阴极隔断阀的入口,各阴极隔断阀的出口接真空溅射腔室上各阴极的进气口上;各阴极质量流量控制器通过数据线接入可编程控制器的模拟量输入模块和输出模块上,各阴极隔断阀连接可编程控制器的数字量输出模块上。它具有很高的控制精度,响应速度极快,软启动稳定可靠速度快,工作压力范围相对较宽,溅射气氛均匀度高,成膜质量高等优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 磁控溅射 镀膜 溅射 压力 系统 | ||
【主权项】:
一种多靶磁控溅射镀膜机的溅射压力系统,它包括可编程控制器(1)、气体压力/流量控制仪(2)、质量流量计(3)、比例调节阀(4)、隔断阀(5)、高真空角阀(6)、薄膜压力规(7)和真空溅射腔室(20),其特征在于:真空溅射腔室(20)上共有六个阴极,其中:在后门上有三个阴极平行分布,径向排列,靠近真空腔室下圆周表面;在前门上有三个阴极平行分布,径向排列,悬挂在前门支撑上相对位置靠近真空腔室圆周的上表面;系统还分别具有第一、第二、第三、第四、第五和第六阴极质量流量控制器(8、10、12、14、16、18)和第一、第二、第三、第四、第五和第六阴极隔断阀(9、11、13、15、17、19);高纯氩气经过气体稳压装置(7)后分别连接到各阴极质量流量控制器(8、10、12、14、16、18)的进气口;各阴极质量流量控制器(8、10、12、14、16、18)的出气口分别接到各阴极隔断阀(9、11、13、15、17、19)的入口,各阴极隔断阀(9、11、13、15、17、19)的出口接到真空溅射腔室(20)上各阴极的进气口上;各阴极质量流量控制器(8、10、12、14、16、18)通过数据线接入到可编程控制器(1)的模拟量输入模块和输出模块上,各阴极隔断阀(9、11、13、15、17、19)也是连接到可编程控制器(1)的数字量输出模块上。
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