[实用新型]一种化学气相沉积设备及其托盘有效
申请号: | 201220729105.7 | 申请日: | 2012-12-26 |
公开(公告)号: | CN203007414U | 公开(公告)日: | 2013-06-19 |
发明(设计)人: | 苏育家;左然;黄颖泉;黄允文 | 申请(专利权)人: | 光达光电设备科技(嘉兴)有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458 |
代理公司: | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人: | 杨林;马翠平 |
地址: | 314300 浙江省海盐*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本实用新型涉及外延制作材料技术,尤其是一种化学气相沉积设备的托盘,所述托盘包括衬底承载面和多个限位件,所述多个限位件相互间隔设置于所述衬底承载面上,所述多个限位件用于限定多个衬底在所述承载面上的位置,所述限位件在平行所述衬底承载面的平面的第一截面上呈多边形或呈具有向内弯曲的边的多边形,所述多边形的角为圆角。本实用新型还提供具有这种托盘的化学气相沉积设备。本实用新型对托盘限位件的结构进行改进,比现有技术的限位件更经久耐用,避免因碰撞而破损所导致限位件材料溢出污染衬底,且限位件活动插接于托盘上,使用更方便。 | ||
搜索关键词: | 一种 化学 沉积 设备 及其 托盘 | ||
【主权项】:
一种化学气相沉积设备的托盘,所述托盘包括衬底承载面和多个限位件,所述多个限位件相互间隔设置于所述衬底承载面上,所述多个限位件用于限定多个衬底在所述承载面上的位置,其特征在于:所述限位件在平行所述衬底承载面的平面的第一截面上呈多边形或呈具有向内弯曲的边的多边形,所述多边形的角为圆角。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的