[实用新型]一种镀膜设备及靶材有效
| 申请号： | 201220657375.1 | 申请日： | 2012-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN202954086U | 公开（公告）日： | 2013-05-29 |
| 发明（设计）人： | 金原奭;金永珉;金珌奭 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 黄灿;安利霞 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种镀膜设备及靶材，其中镀膜设备包括：腔体和靶材；所述靶材为位于所述腔体内部的平行设置的至少两个靶材；所述腔体具有位于任意两行靶材之间的反应气体输入口。本实用新型的方案可以使反应气体分布均匀，从而使基板上的膜层厚度均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 镀膜 设备 | ||
【主权项】：
一种镀膜设备，包括：腔体和靶材；其特征在于，所述靶材为位于所述腔体内部的平行设置的至少两个靶材；所述腔体具有位于任意两行靶材之间的反应气体输入口。
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