[实用新型]光刻胶涂覆设备有效
| 申请号： | 201220575490.4 | 申请日： | 2012-11-02 |
| 公开（公告）号： | CN202854484U | 公开（公告）日： | 2013-04-03 |
| 发明（设计）人： | 赵娜;王守波;王文龙;操彬彬 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种光刻胶涂覆设备，涉及半导体工艺技术领域，为了解决现有技术对待涂覆的基板涂覆光刻胶时，其上沾染的异物会导致各种不良情况的发生。该光刻胶涂覆设备，包括固定在喷嘴平动装置下方的涂覆喷嘴，还包括除异物装置，位于待涂覆基板上方，用于在使用涂覆喷嘴向待涂覆基板上表面涂胶的同时，向待涂覆基板上表面的未涂胶部分喷射气体，以使异物沿喷嘴平动装置的运动方向脱离待涂覆基板。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 胶涂覆 设备 | ||
【主权项】：
一种光刻胶涂覆设备，包括固定在喷嘴平动装置下方的涂覆喷嘴，其特征在于，还包括除异物装置，位于待涂覆基板上方，用于在使用所述涂覆喷嘴向所述待涂覆基板上表面涂胶的同时，向所述待涂覆基板上表面的未涂胶部分喷射气体，以使异物沿所述喷嘴平动装置的运动方向脱离所述待涂覆基板。
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