[实用新型]常压下利用等离子体接枝聚合进行材料表面改性的装置有效
| 申请号： | 201220480568.4 | 申请日： | 2012-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN202989641U | 公开（公告）日： | 2013-06-12 |
| 发明（设计）人： | 王红卫 | 申请（专利权）人： | 苏州市奥普斯等离子体科技有限公司 |
| 主分类号： | D06M14/18 | 分类号： | D06M14/18 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215000 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种常压下利用等离子体接枝聚合进行材料表面改性的装置，包括等离子体活化区和等离子体接枝聚合区，在等离子体活化区和等离子体接枝聚合区之间为接枝气体喂入区，所述等离子体活化区包括金属电极组、介质阻挡层，所述等离子体接枝聚合区包括金属电极组、介质阻挡层。本实用新型克服了现有真空等离子体表面处理技术存在的不足，也克服了由于基体材料表面的惰性而导致的改性层失效的问题，成本低、功能强、便于操作和工业化连续处理。 | ||
| 搜索关键词： | 压下 利用 等离子体 接枝 聚合 进行 材料 表面 改性 装置 | ||
【主权项】：
一种常压下利用等离子体接枝聚合进行材料表面改性的装置，包括等离子体活化区和等离子体接枝聚合区，在等离子体活化区和等离子体接枝聚合区之间为接枝气体喂入区，其特征在于，所述等离子体活化区包括金属电极组、介质阻挡层，所述等离子体接枝聚合区包括金属电极组、介质阻挡层。
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通式(1)
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