[实用新型]蒸镀半导体元件承载环及具有该承载环的承载装置有效
申请号: | 201220258032.8 | 申请日: | 2012-05-31 |
公开(公告)号: | CN202695403U | 公开(公告)日: | 2013-01-23 |
发明(设计)人: | 周子弘;张谦成;林耀辉 | 申请(专利权)人: | 隆达电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/673 | 分类号: | H01L21/673;C23C14/24;C23C14/50 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人: | 寿宁;张华辉 |
地址: | 中国台湾新竹科学*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本实用新型是有关于一种蒸镀半导体元件承载环及具有该承载环的承载装置,其中蒸镀半导体元件承载环包含一个环状立壁,及至少三个托部,所述托部自该环状立壁底部朝该环状立壁几何中心延伸设置,且所述托部彼此间隔设置,而本实用新型具有蒸镀半导体元件承载环的承载装置包含一个承载装置、多个蒸镀半导体元件承载环,该承载装置包括一个支撑板,及多个开设于该支撑板上的蒸镀孔,所述蒸镀半导体元件承载环分别对应所述蒸镀孔设置,利用所述托部即可达到承载晶圆的效果,让晶圆所受到的遮蔽面积大幅减少。 | ||
搜索关键词: | 半导体 元件 承载 具有 装置 | ||
【主权项】:
一种蒸镀半导体元件承载环,包含:一个环状立壁,及一个定位环状凸部,该定位环状凸部自该环状立壁顶部朝远离该环状立壁几何中心延伸设置;其特征在于:该蒸镀半导体元件承载环还包含至少三个托部,自该环状立壁底部朝该环状立壁几何中心延伸设置,且所述托部彼此间隔设置。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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