[实用新型]多弧离子镀膜机的电弧靶结构有效

专利信息
申请号: 201220127214.1 申请日: 2012-03-30
公开(公告)号: CN202595251U 公开(公告)日: 2012-12-12
发明(设计)人: 赵铭 申请(专利权)人: 广东友通工业有限公司
主分类号: C23C14/32 分类号: C23C14/32
代理公司: 东莞市创益专利事务所 44249 代理人: 李卫平
地址: 523000 广东省东莞*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型涉及离子镀膜设备技术领域,尤其是涉及多弧离子镀膜机的电弧靶结构,包括有靶材、引弧针,靶材为圆柱靶,靶材外周组设有可调屏蔽罩,可调屏蔽罩上设有外螺纹,所述引弧针安装在一活动轴上,引弧针的针尖设置在靶材的前端方向;靶材通过可调屏蔽罩上的外螺纹组装到一固定的外屏蔽罩之中部,且在靶材的后端接触一内部设有冷却水的水套座。本实用新型通过螺纹旋进旋出即可实现靶材的位置调整,提升靶材的利用率,且靶材为圆柱靶,通用性强,可做成多种金属靶,满足各种生产需要;设有水冷却,达到降温功效,有效防止高温烧坏的现象,提升靶材的使用寿命。
搜索关键词: 离子 镀膜 电弧 结构
【主权项】:
多弧离子镀膜机的电弧靶结构,包括有靶材(1)、引弧针(2),其特征在于:靶材(1)为圆柱靶,靶材(1)外周组设有可调屏蔽罩(3),可调屏蔽罩(3)上设有外螺纹(31),所述引弧针(2)安装在一活动轴(4)上,引弧针(2)的针尖设置在靶材(1)的前端方向;靶材(1)通过可调屏蔽罩(3)上的外螺纹(31)组装到一固定的外屏蔽罩(5)之中部,且在靶材(1)的后端接触一内部设有冷却水的水套座(6)。
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