[实用新型]等离子体表面处理装置有效
申请号: | 201220125472.6 | 申请日: | 2012-03-29 |
公开(公告)号: | CN202519329U | 公开(公告)日: | 2012-11-07 |
发明(设计)人: | 吴海英 | 申请(专利权)人: | 雅视光学有限公司 |
主分类号: | C23C16/50 | 分类号: | C23C16/50 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 曾旻辉 |
地址: | 中国香港九龙观塘*** | 国省代码: | 中国香港;81 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型提供一种等离子体表面处理装置,该装置包括箱体、与箱体连接的抽真空系统和反应气体室,该箱体内设有等离子源电极电板,该等离子源电极电板与高频高压电源连接。该等离子体表面处理步骤:将工件置于箱体内并密闭箱体;抽真空系统对箱体进行抽真空处理;从反应气体室向箱体内加入反应气体;高频高压电源输出高压电,使等离子源电极电板激发等离子体,令到反应气体被电离激发,轰击工件表面粒子而形成表面自由基。采用本实用新型进行工件等离子体表面处理,所利用的条件和工作元素都是环保无害的,无有害废气废液排出,符合绿色环保的生产原则。 | ||
搜索关键词: | 等离子体 表面 处理 装置 | ||
【主权项】:
一种等离子体表面处理装置,其特征在于,其包括箱体、与箱体连接的抽真空系统和反应气体室,该箱体内设有等离子源电极电板,该等离子源电极电板与高频高压电源连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于雅视光学有限公司,未经雅视光学有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201220125472.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:氢氧产生机的电极组
- 下一篇:一种锑氧粉挥发焙烧装置
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的