[实用新型]一种磁控镀膜机解除靶中毒装置有效
申请号: | 201220037477.3 | 申请日: | 2012-02-07 |
公开(公告)号: | CN202830157U | 公开(公告)日: | 2013-03-27 |
发明(设计)人: | 潘振强 | 申请(专利权)人: | 肇庆市振华真空机械有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/54 |
代理公司: | 广州市南锋专利事务所有限公司 44228 | 代理人: | 李永庆 |
地址: | 526060 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型涉及机械生产设备技术领域,具体涉及一种磁控镀膜机解除靶中毒装置。本装置特征在于:电磁阀、质量流量控制器、闭环流量控制仪依次通过气管连接;在所述的闭环流量控制仪上设有一个或一个以上的手动微调阀,在该手动微调阀上连接有供气管;所述的供气管上设有一个或一个以上的吹气口,该吹气口吹气位置与磁控靶相对应。本实用新型可根据使用实际情况调整气量的大小,整体结构简单,可操作性强,调整方便,使用效果明显。 | ||
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【主权项】:
一种磁控镀膜机解除靶中毒装置,其特征在于:电磁阀(2)、质量流量控制器(3)、闭环流量控制仪(4)依次通过气管连接;在所述的闭环流量控制仪(4)上设有一个或一个以上的手动微调阀(5),在该手动微调阀(5)上连接有供气管(6);所述的供气管(6)上设有一个或一个以上的吹气口(7),该吹气口(7)吹气位置与磁控靶(8)相对应。
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