[发明专利]微波激发PVD镀膜设备有效
申请号: | 201210571946.4 | 申请日: | 2012-12-25 |
公开(公告)号: | CN103046007A | 公开(公告)日: | 2013-04-17 |
发明(设计)人: | 王奉瑾 | 申请(专利权)人: | 王奉瑾 |
主分类号: | C23C14/28 | 分类号: | C23C14/28;C23C14/54 |
代理公司: | 深圳中一专利商标事务所 44237 | 代理人: | 张全文 |
地址: | 528400 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供了一种微波激发PVD镀膜设备,包括壳体及靶材,还包括具有微波发射喇叭的微波发生器,该壳体具有密封的PVD腔体,PVD腔体内安装有靶材载舟,靶材载舟具有用于放置靶材的容置槽,待镀膜材料位于容置槽上方且其需镀膜的一面与之相对;微波发生器的本体安装于PVD腔体外,其微波发射喇叭设于PVD腔体内;PVD腔体内横设有用于屏蔽微波的金属网,该金属网位于靶材载舟与所述待镀膜材料之间。PVD腔体内安装有用于驱动靶材载舟沿待镀膜材料表面平行移动的移动装置。本发明加热效率高、镀膜效率高、容易控制加热温度、不易损坏待镀膜材料、制造成本低廉,本发明所镀的膜厚均匀、镀膜表面光滑。 | ||
搜索关键词: | 微波 激发 pvd 镀膜 设备 | ||
【主权项】:
一种微波激发PVD镀膜设备,包括壳体及靶材,其特征在于:还包括具有微波发射喇叭的微波发生器,所述壳体具有密封的PVD腔体,所述PVD腔体内安装有靶材载舟,所述靶材载舟具有用于放置所述靶材的容置槽,待镀膜材料位于所述容置槽上方且其需镀膜的一面与之相对;所述微波发生器的本体安装于所述PVD腔体外,其微波发射喇叭设于所述PVD腔体内;所述PVD腔体内横设有用于屏蔽微波的金属网,该金属网位于所述靶材载舟与所述待镀膜材料之间。
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