[发明专利]微波激发PVD镀膜设备有效

专利信息
申请号: 201210571946.4 申请日: 2012-12-25
公开(公告)号: CN103046007A 公开(公告)日: 2013-04-17
发明(设计)人: 王奉瑾 申请(专利权)人: 王奉瑾
主分类号: C23C14/28 分类号: C23C14/28;C23C14/54
代理公司: 深圳中一专利商标事务所 44237 代理人: 张全文
地址: 528400 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 微波 激发 pvd 镀膜 设备
【权利要求书】:

1.一种微波激发PVD镀膜设备,包括壳体及靶材,其特征在于:还包括具有微波发射喇叭的微波发生器,所述壳体具有密封的PVD腔体,所述PVD腔体内安装有靶材载舟,所述靶材载舟具有用于放置所述靶材的容置槽,待镀膜材料位于所述容置槽上方且其需镀膜的一面与之相对;所述微波发生器的本体安装于所述PVD腔体外,其微波发射喇叭设于所述PVD腔体内;所述PVD腔体内横设有用于屏蔽微波的金属网,该金属网位于所述靶材载舟与所述待镀膜材料之间。

2.如权利要求1所述的微波激发PVD镀膜设备,其特征在于:所述PVD腔体内安装有用于驱动所述靶材载舟沿所述待镀膜材料表面平行移动的移动装置。

3.如权利要求2所述的微波激发PVD镀膜设备,其特征在于:所述移动装置包括具有螺纹的丝杆及驱动该丝杆转动的第一电机,所述靶材载舟开设有与所述丝杆的螺纹适配的螺孔,所述丝杆穿设于所述螺孔内。

4.如权利要求1所述的微波激发PVD镀膜设备,其特征在于:所述壳体开设有供所述待镀膜材料进入所述PVD腔体的进料口,所述壳体还开设有供所述待镀膜材料离开所述PVD腔体的出料口,所述进料口与所述出料口相对设置且均安装有密封装置。

5.如权利要求4所述的微波激发PVD镀膜设备,其特征在于:所述密封装置包括弹性按压于所述待镀膜材料一面的第一滚筒及弹性按压于所述待镀膜材料另一面的第二滚筒。

6.如权利要求5所述的微波激发PVD镀膜设备,其特征在于:所述密封装置还包括驱动所述第一滚筒或所述第二滚筒转动的第二电机。

7.如权利要求1-6任一项所述的微波激发PVD镀膜设备,其特征在于:所述PVD腔体内安装有水冷散热装置、用于检测待镀膜材料上镀膜厚度的膜厚监控装置、用于监控所述PVD腔体内部环境的视频监控装置以及测温装置。

8.如权利要求7所述的微波激发PVD镀膜设备,其特征在于:所述壳体设有向所述水冷散热装置注入冷却液的入水口以及排出冷却液的出水口。

9.如权利要求8所述的微波激发PVD镀膜设备,其特征在于:所述PVD腔体内安装有四组所述水冷散热装置。

10.如权利要求7所述的微波激发PVD镀膜设备,其特征在于:所述视频监控装置包括视频镜头,所述壳体开设有用于安装所述视频镜头的镜头安装孔。

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