[发明专利]一种曝光底片防焊手动对位图形设计方法有效

专利信息
申请号: 201210558885.8 申请日: 2012-12-21
公开(公告)号: CN103052272A 公开(公告)日: 2013-04-17
发明(设计)人: 曾祥福;黄克强;李飞宏;张晃初 申请(专利权)人: 胜宏科技(惠州)股份有限公司
主分类号: H05K3/28 分类号: H05K3/28;G03F7/20;G03F1/42
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 代理人: 任海燕;陈文福
地址: 516211 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种曝光底片防焊手动对位图形设计方法,包括:在外层底片的成型区内一边或多边设置参照图形块组,所述参照图形组包括两个或两个以上参照图形块;在网版底片的成型区内设置与参照图形块组对应的透光带;在防焊底片的成型区内一边或多边设置对位图形块组,所述对位图形块组包括两个或两个以上对位图形块,且对位图形块与参照图形块一一对应且形状相同。采用该方法能有效保证作业人员将线路板上由参照图形块通过图像转移得到的图形在与防焊底片对应位置的对位图形块进行比对时由于未受油墨影响,目视清晰,对位准确、高效,有效提高曝光对位精度、曝光效率。
搜索关键词: 一种 曝光 底片 手动 对位 图形 设计 方法
【主权项】:
一种曝光底片防焊手动对位图形设计方法,包括:在外层底片的成型区内一边或多边设置参照图形块组,所述参照图形组包括两个或两个以上参照图形块;在网版底片的成型区内设置与参照图形块组对应的透光带;在防焊底片的成型区内一边或多边设置对位图形块组,所述对位图形块组包括两个或两个以上对位图形块,且对位图形块与参照图形块一一对应且形状相同。
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