[发明专利]三维集成高密度厚膜多芯片组件的集成方法有效

专利信息
申请号: 201210492847.7 申请日: 2012-11-28
公开(公告)号: CN103094219A 公开(公告)日: 2013-05-08
发明(设计)人: 杨成刚;苏贵东 申请(专利权)人: 贵州振华风光半导体有限公司
主分类号: H01L21/98 分类号: H01L21/98;H01L21/60
代理公司: 贵阳中工知识产权代理事务所 52106 代理人: 刘安宁
地址: 550018 贵*** 国省代码: 贵州;52
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了三维集成高密度陶瓷厚膜多芯片组件的集成方法,方法是先制作所需多层陶瓷厚膜基片,在多层陶瓷厚膜基片上,制作厚膜导带-阻带网络,小多层陶瓷基片的对外引脚制作在的同一端的端面或者两面;然后在垂直集成的相应键合区形成金球;再采用厚膜混合集成的方式进行集成,在小多层陶瓷基片的正反面集成一个以上半导体芯片或片式元器件,并完成引线键合;最后,采用共晶、合金或浆料粘接等焊接方式将集成后的小多层陶瓷基片垂直集成在底座多层陶瓷基片上。本发明采用三维竖向垂直集成,可将一个以上半导体芯片或其他片式元器件垂直集成在同一底座多层陶瓷基片上,实现高密度三维集成,提高多芯片组件的集成度和提高应用系统的可靠性。
搜索关键词: 三维 集成 高密度 厚膜多 芯片 组件 方法
【主权项】:
三维集成高密度陶瓷厚膜多芯片组件的集成方法,其特征是:先按多层陶瓷厚膜基片常规工艺制作所需多层陶瓷厚膜基片,在多层陶瓷厚膜基片上,采用丝网印刷、浆料烧结、激光调阻的方式制作导带‑阻带网络,将所有对外进行电气连接的引脚制作在小多层陶瓷基片的同一端的端面或者两面;然后在每根引脚的键合区和底座多层陶瓷基片表面相应的键合区形成金球;再采用厚膜混合集成的方式进行半导体芯片或片式元器件的集成,在小多层陶瓷基片的正反面集成一个以上半导体芯片或片式元器件,并完成半导体芯片的引线键合;最后,采用共晶焊接、合金焊或浆料粘接的方式将集成后的小多层陶瓷基片垂直集成在底座多层陶瓷基片上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于贵州振华风光半导体有限公司,未经贵州振华风光半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210492847.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top