[发明专利]三维集成高密度厚膜多芯片组件的集成方法有效
申请号: | 201210492847.7 | 申请日: | 2012-11-28 |
公开(公告)号: | CN103094219A | 公开(公告)日: | 2013-05-08 |
发明(设计)人: | 杨成刚;苏贵东 | 申请(专利权)人: | 贵州振华风光半导体有限公司 |
主分类号: | H01L21/98 | 分类号: | H01L21/98;H01L21/60 |
代理公司: | 贵阳中工知识产权代理事务所 52106 | 代理人: | 刘安宁 |
地址: | 550018 贵*** | 国省代码: | 贵州;52 |
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摘要: | 本发明公开了三维集成高密度陶瓷厚膜多芯片组件的集成方法,方法是先制作所需多层陶瓷厚膜基片,在多层陶瓷厚膜基片上,制作厚膜导带-阻带网络,小多层陶瓷基片的对外引脚制作在的同一端的端面或者两面;然后在垂直集成的相应键合区形成金球;再采用厚膜混合集成的方式进行集成,在小多层陶瓷基片的正反面集成一个以上半导体芯片或片式元器件,并完成引线键合;最后,采用共晶、合金或浆料粘接等焊接方式将集成后的小多层陶瓷基片垂直集成在底座多层陶瓷基片上。本发明采用三维竖向垂直集成,可将一个以上半导体芯片或其他片式元器件垂直集成在同一底座多层陶瓷基片上,实现高密度三维集成,提高多芯片组件的集成度和提高应用系统的可靠性。 | ||
搜索关键词: | 三维 集成 高密度 厚膜多 芯片 组件 方法 | ||
【主权项】:
三维集成高密度陶瓷厚膜多芯片组件的集成方法,其特征是:先按多层陶瓷厚膜基片常规工艺制作所需多层陶瓷厚膜基片,在多层陶瓷厚膜基片上,采用丝网印刷、浆料烧结、激光调阻的方式制作导带‑阻带网络,将所有对外进行电气连接的引脚制作在小多层陶瓷基片的同一端的端面或者两面;然后在每根引脚的键合区和底座多层陶瓷基片表面相应的键合区形成金球;再采用厚膜混合集成的方式进行半导体芯片或片式元器件的集成,在小多层陶瓷基片的正反面集成一个以上半导体芯片或片式元器件,并完成半导体芯片的引线键合;最后,采用共晶焊接、合金焊或浆料粘接的方式将集成后的小多层陶瓷基片垂直集成在底座多层陶瓷基片上。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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