[发明专利]含有铜层和/或铜合金层的金属膜用蚀刻液组合物及使用该蚀刻液组合物的蚀刻方法无效
| 申请号： | 201210409288.9 | 申请日： | 2012-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN103060810A | 公开（公告）日： | 2013-04-24 |
| 发明（设计）人： | 黑岩健次 | 申请（专利权）人： | 关东化学株式会社 |
| 主分类号： | C23F1/34 | 分类号： | C23F1/34 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 谢顺星;经志强 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种蚀刻液组合物，其能够精度良好地蚀刻含有铜层和/或铜合金层的金属膜或由该层与其他金属形成的层组成的层压膜，所述蚀刻液组合物的液体使用寿命长。即，本发明涉及用于蚀刻含有铜层和/或铜合金层的金属膜的蚀刻液组合物，其含有铜（II）离子、β-丙氨酸及水，本发明还涉及使用该蚀刻液组合物的蚀刻方法。 | ||
| 搜索关键词： | 含有 铜合金 金属膜 蚀刻 组合 使用 方法 | ||
【主权项】：
一种蚀刻液组合物，其用于蚀刻含有铜层和/或铜合金层的金属膜，其特征在于，含有铜（II）离子、β‑丙氨酸及水。
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