[发明专利]微光刻投射曝光设备的照明系统有效
| 申请号： | 201210400890.6 | 申请日： | 2008-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN102866600A | 公开（公告）日： | 2013-01-09 |
| 发明（设计）人： | 达米安.菲奥尔卡;丹尼尔.沃尔多夫;英戈.桑格 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 吴艳 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及微光刻投射曝光设备的照明系统，该照明系统包括：具有多个镜单元的镜布置，其中镜单元可彼此无关地移动用于改变由镜布置反射的光的角度分布；和双折射材料的至少两个元件的布置，其中这些元件相对于彼此的相对位置是可变的；其中通过调整所述元件的相应位置，以及从而调整所述镜布置中与所述元件中的一个或两个重叠的那些镜单元的位置和数量，能够调整在所述照明系统的光瞳平面中获得的偏振分布。 | ||
| 搜索关键词： | 微光 投射 曝光 设备 照明 系统 | ||
【主权项】：
一种微光刻投射曝光设备的照明系统，包括：·具有多个镜单元的镜布置，其中镜单元可彼此无关地移动用于改变由镜布置反射的光的角度分布；和·双折射材料的至少两个元件的布置，其中这些元件相对于彼此的相对位置是可变的；·其中通过调整所述元件的相应位置，以及从而调整所述镜布置中与所述元件中的一个或两个重叠的那些镜单元的位置和数量，能够调整在所述照明系统的光瞳平面中获得的偏振分布。
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