[发明专利]微光刻投射曝光设备的照明系统

权利要求书

1.一种微光刻投射曝光设备的照明系统，包括：

·具有多个镜单元的镜布置，其中镜单元可彼此无关地移动用于改变由镜布置反射的光的角度分布；和

·双折射材料的至少两个元件的布置，其中这些元件相对于彼此的相对位置是可变的；

·其中通过调整所述元件的相应位置，以及从而调整所述镜布置中与所述元件中的一个或两个重叠的那些镜单元的位置和数量，能够调整在所述照明系统的光瞳平面中获得的偏振分布。

2.如权利要求1所述的照明系统，其特征在于，所述元件在垂直于光传播的平面中能够独立地移动。

3.如权利要求1或2所述的照明系统，其特征在于，所述元件能够在垂直于光传播并且彼此垂直的两个平面中移动。

4.如前述任一项权利要求所述的照明系统，其特征在于，所述元件紧邻地位于所述镜布置的一部分的上游。

5.如权利要求4所述的照明系统，其特征在于，所述布置下游的光中所存在的不同偏振状态能够被不同的镜单元所反射，从而被导向至光瞳平面的不同位置。

6.如权利要求1－3中任一项所述的照明系统，其特征在于，所述元件紧邻地位于所述镜布置的一部分的下游。

7.如前述任一项权利要求所述的照明系统，其特征在于，所述元件是延迟板。

8.如权利要求7所述的照明系统，其特征在于，所述延迟板具有相反符号的延迟。

9.如权利要求1－6中任一项所述的照明系统，其特征在于，所述元件显示出圆振双折射特性。

10.如权利要求9所述的照明系统，其特征在于，所述元件具有相同的的光学旋转符号。

11.如权利要求9所述的照明系统，其特征在于，所述元件具有相反的光学旋转符号。

12.如权利要求9－11中任一项所述的照明系统，其特征在于，所述元件是由晶体石英制成的。

13.如前述任一项权利要求所述的照明系统，其特征在于，所述元件具有在光传播方向上测得的变化的厚度轮廓。

14.如前述任一项权利要求所述的照明系统，其特征在于，所述元件是楔形元件。

15.如权利要求14所述的照明系统，其特征在于，所述楔形元件之一具有根据阶梯函数构造的光出口表面。

16.如前述任一项权利要求所述的照明系统，其特征在于，所述双折射材料的至少两个元件的布置包括汉勒-消偏器，该汉勒-消偏器包括双折射材料的两个楔形元件（42a、42b），其中光学晶体轴取向为处于垂直于光传播的平面中并相对彼此成45°。

17.如前述任一项权利要求所述的照明系统，其特征在于，所述双折射材料的至少两个元件的布置包括多个平行平面段或块，其中至少一些块具有在光传播方向上测量的不同厚度。

18.如权利要求17所述的照明系统，其特征在于，所述多个平行平面段或块由一片制成，从而获得单片结构。

19.如权利要求1－12中任一项所述的照明系统，其特征在于，所述元件是平行平面元件。

20.如前述任一项权利要求所述的照明系统，其特征在于，所述照明系统还包括用语相对于彼此移动所述元件的控制设备（83）。

21.如前述任一项权利要求所述的照明系统，其特征在于，通过调整所述元件的相应位置，能够补偿由所述照明系统的光学部件所产生的延迟和/或由掩模在系统中引入的双折射。

22.一种用于补偿照明系统的光学部件所产生的延迟和/或由掩模在系统中引入的双折射的方法，其特征在于所述方法包括调整如前述任一项权利要求所述的照明系统的所述元件的相应位置的步骤。

23.一种微光刻投射曝光设备，包括照明系统的投射物镜，其特征在于，所述照明系统是如权利要求1-21中任一项所述地设计的。

24.一种为结构部件的微光刻生产工艺，包括如下步骤：

·提供基板，该基板上至少部分地施加光敏感材料层；

·提供具有结构的掩模，将要产生该结构的像；

·提供如权利要求23所述的投射曝光设备；和

·借助于该投射曝光设备，将掩模的至少一部分投射到该层的区域。