[发明专利]光学薄膜用粘合剂层的制造方法、光学薄膜用粘合剂层、粘合型光学薄膜以及图像显示装置无效
| 申请号： | 201210364698.6 | 申请日： | 2012-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN103013362A | 公开（公告）日： | 2013-04-03 |
| 发明（设计）人： | 下栗大器;乾州弘;高桥俊贵;卷幡阳介;细川敏嗣;石井孝证 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | C09J7/00 | 分类号： | C09J7/00;C09J133/00;C09J133/08;C09J7/02;G02B1/10;G02B5/30 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种可减轻辨识性问题而没有涂覆速度的降低等损害生产率的情况的光学薄膜用粘合剂层的制造方法、光学薄膜用粘合剂层、粘合型光学薄膜以及图像显示装置。所述制法包括涂覆工序（1)以及干燥工序（2），所述涂覆工序（1）为将含水分散液的水分散型粘合剂涂覆在脱模薄膜上的工序，所述水分散液含有水分散型的（甲基）丙烯酸系聚合物，所述干燥工序（2）为对所涂覆的水分散型粘合剂进行干燥的工序，其中，所述水分散型粘合剂在剪切速度4000（1/s）下的粘度为0.01～0.1Pa·s，在所述脱模薄膜上形成的所述光学薄膜用粘合剂层表面的表面粗糙度（Ra）为10～40nm，且所述光学薄膜用粘合剂层的雾度值为1%以下。 | ||
| 搜索关键词： | 光学薄膜 粘合剂 制造 方法 粘合 以及 图像 显示装置 | ||
【主权项】：
一种光学薄膜用粘合剂层的制造方法，其特征在于，其为包括涂覆工序（1）以及干燥工序（2）的光学薄膜用粘合剂层的制造方法，所述涂覆工序（1）为将含有水分散液的水分散型粘合剂涂覆在脱模薄膜上的工序，所述水分散液含有水分散型的（甲基）丙烯酸系聚合物，所述干燥工序（2）为对所涂覆的水分散型粘合剂进行干燥的工序，其中，所述水分散型粘合剂在剪切速度4000（1/s）下的粘度为0.01~0.1Pa·s，在所述脱模薄膜上形成的所述光学薄膜用粘合剂层的表面的表面粗糙度（Ra）为10~40nm，并且，所述光学薄膜用粘合剂层的厚度为23μm时的雾度值为1%以下。
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