[发明专利]基板处理装置及具有其的基板处理系统有效
| 申请号： | 201210336972.9 | 申请日： | 2012-09-12 |
| 公开（公告）号： | CN103177924A | 公开（公告）日： | 2013-06-26 |
| 发明（设计）人： | 魏奎镕 | 申请（专利权）人： | 圆益IPS股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京青松知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11384 | 代理人： | 郑青松 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明是涉及基板处理装置及具有其的基板处理系统，更详细地说是将离子束照射到基板上来执行基板处理的基板处理装置及具有其的基板处理系统。本发明公开的基板处理装置，其特征在于，包括：工序室，设置有移送安置有一个以上基板的托盘的移送路径；离子束照射部，设置于所述移送路径的上侧，向设定于所述移送路径上的离子束照射区域照射从离子束源中发生的离子束，从而使所述托盘在位于所述离子束照射区域时，对基板表面照射离子束；束阻断部，设置于所述移送路径的下侧，从而在所述托盘不位于所述离子束照射区域时，防止离子束直接照射到工序室上。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 具有 系统 | ||
【主权项】：
一种基板处理装置，其特征在于，包括：工序室，设置有移送安置有一个以上基板的托盘的移送路径；离子束照射部，设置于所述移送路径的上侧，向设定于所述移送路径的离子束照射区域照射从离子束源中发生的离子束，从而使所述托盘在位于所述离子束照射区域时，对基板表面照射离子束；束阻断部，设置于所述移送路径的下侧，从而使所述托盘在不位于所述离子束照射区域时，防止离子束直接照射到工序室上。
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