[发明专利]盐、光致抗蚀剂组合物和用于制备光致抗蚀剂图案的方法无效
| 申请号： | 201210297407.6 | 申请日： | 2012-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN102955359A | 公开（公告）日： | 2013-03-06 |
| 发明（设计）人： | 吉田勋;向井优一;市川幸司 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/00;C07C381/12;C07C309/17;C07D307/00;C07C309/12;C07D327/08;C07D333/46;C07D335/02 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 贺卫国 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： |
本发明提供盐、光致抗蚀剂组合物和用于制备光致抗蚀剂图案的方法。一种光致抗蚀剂组合物，其包含在碱水溶液中难溶或不溶但是通过酸的作用可溶的树脂和由式(I)表示的盐，其中Q1和Q2各自独立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基，L1表示C1-C30三价脂族饱和烃基，其中氢原子可以用氟原子替换并且其中亚甲基可以用氧原子、-NR3-或羰基替换，其中R3表示氢原子或C1-C6烷基，W1和W2各自独立地表示C3-C36脂环烃环，其中亚甲基可以用氧原子、硫原子、-NR4-、磺酰基或羰基替换，其中R4表示氢原子或C1-C6烷基，R1和R2各自独立地表示羟基或C1-C6烷基，t1和t2各自独立地表示0至2的整数，并且Z+表示有机阳离子。 |
||
| 搜索关键词： | 光致抗蚀剂 组合 用于 制备 图案 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光致抗蚀剂组合物，所述光致抗蚀剂组合物包含：树脂，所述树脂在碱水溶液中难溶或不溶但是通过酸的作用可溶，以及由式(I)表示的盐：![]()
其中Q1和Q2各自独立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基，L1表示C1-C30三价脂族饱和烃基，其中氢原子可以用氟原子替换并且其中亚甲基可以用氧原子、-NR3-或羰基替换，其中R3表示氢原子或C1-C6烷基，W1和W2各自独立地表示C3-C36脂环烃环，其中亚甲基可以用氧原子、硫原子、-NR4-、磺酰基或羰基替换，其中R4表示氢原子或C1-C6烷基，R1和R2各自独立地表示羟基或C1-C6烷基，t1和t2各自独立地表示0至2的整数，并且Z+表示有机阳离子。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于住友化学株式会社，未经住友化学株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201210297407.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种胡萝卜金针菇柿子卷
- 下一篇：一种伊潘立酮的杂质及其制备方法
