[发明专利]曝光方法及曝光装置有效
| 申请号： | 201210284403.4 | 申请日： | 2012-08-06 |
| 公开（公告）号： | CN102854756A | 公开（公告）日： | 2013-01-02 |
| 发明（设计）人： | 王耸;万冀豫;吴洪江 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 李娟 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种曝光方法和曝光装置，所述曝光方法包括将基板置于掩膜版下方，且所述基板与所述掩膜版平行，其中，所述基板包括透明基底和涂覆于透明基底上的光刻胶；采用至少两条曝光光线通过掩膜版对光刻胶进行曝光；其中，至少两条曝光光线通过掩膜版的同一个曝光区对光刻胶进行曝光，每条曝光光线通过同一个曝光区在光刻胶形成一个照射区域，至少有两个照射区域有部分重叠。所述曝光装置包括掩膜版承载单元，基板承载单元和曝光光线形成单元。本发明的曝光方法和曝光装置形成图形的同一个图形单元的厚度不同，同时为减小角段差提供了前提。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种曝光方法，其特征在于，包括：将基板置于掩膜版下方，且所述基板与所述掩膜版平行，其中，所述基板包括透明基底和涂覆于透明基底上的光刻胶；采用至少两条曝光光线通过掩膜版对光刻胶进行曝光；其中，至少两条曝光光线通过掩膜版的同一个曝光区对光刻胶进行曝光，每条曝光光线通过同一个曝光区在光刻胶形成一个照射区域，至少有两个照射区域有部分重叠。
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